[发明专利]光学近距修正的方法有效

专利信息
申请号: 200710041108.5 申请日: 2007-05-23
公开(公告)号: CN101311822A 公开(公告)日: 2008-11-26
发明(设计)人: 刘庆炜 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
主分类号: G03F1/14 分类号: G03F1/14
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 代理人: 逯长明
地址: 201203*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种光学近距修正的方法,包括下列步骤:计算待曝光图形上的光强最小值和待曝光图形以外空白区的光强最大值;判断光强最大值和光强最小值是否位于光强近距修正模型内;如果光强最大值和光强最小值位于光强近距修正模型内,则将光强最大值和最小值输出布局软件;如果光强大值和光强最小值位于光强近距修正模型外,则对光强最大值和光强最小值进行光强近距修正,使修正后的光强最大值和光强最小值位于光强近距修正模型内,然后将修正后的光强最大值和光强最小值输出布局软件。经过上述步骤,电路图形不会产生桥接现象,或细化甚至断开的现象。
搜索关键词: 光学 近距 修正 方法
【主权项】:
1.一种光学近距修正的方法,其特征在于,包括下列步骤:a.计算待曝光图形上的光强最小值和待曝光图形以外空白区的光强最大值;b.判断光强最大值和光强最小值是否位于光强近距修正模型内;c.如果光强最大值或光强最小值位于光强近距修正模型内,则将光强最大值或最小值输出布局软件;d.如果光强大值或光强最小值位于光强近距修正模型外,则对光强最大值或光强最小值进行光强近距修正,使修正后的光强最大值或光强最小值位于光强近距修正模型内,然后将修正后的光强最大值或光强最小值输出布局软件。
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