[发明专利]一种纳米二氧化硅磨料抛光液的制备方法无效
| 申请号： | 200710022356.5 | 申请日： | 2007-05-15 |
| 公开（公告）号： | CN101307211A | 公开（公告）日： | 2008-11-19 |
| 发明（设计）人： | 仲跻和 | 申请（专利权）人： | 仲跻和 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 226600江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种纳米二氧化硅磨料抛光液的制备方法，涉及一种微晶玻璃加工用的纳米二氧化硅磨料抛光液的生产方法。先将磨料II均匀溶解于去离子水中，然后在千级净化室的环境内，在真空负压的动力下，通过质量流量计将溶解的磨料II液体输入容器罐中，与容器罐内的所需重量的磨料I进行混合并充分搅拌，混合均匀后将抛光液的其余组分加入容器罐内再继续充分搅拌，混合均匀即制备成成品抛光液。以粒径较小的水溶性二氧化硅溶胶和粒径较大的气相二氧化硅粉末混合作为磨料，既提高了磨料的分散性能，减少抛光后微晶玻璃表面划伤，而且使抛光后的微晶玻璃表面的粗糙度和波纹度降低；可以大大提高抛光速率，化学稳定性好，使用安全。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 纳米 二氧化硅 磨料 抛光 制备 方法 | ||
【主权项】：
1、一种纳米二氧化硅磨料抛光液的制备方法，其特征在于：先将磨料II均匀溶解于去离子水中，然后在千级净化室的环境内，在真空负压的动力下，通过质量流量计将溶解的磨料II液体输入容器罐中，与容器罐内的所需重量的磨料I进行混合并充分搅拌，混合均匀后将抛光液的其余组分加入容器罐内再继续充分搅拌，混合均匀即制备成成品抛光液；所述各种组分所占的重量百分比为：磨料I为10％～40％，磨料II为5％～20％，表面活性剂为0.01％～0.6％，PH调节剂为1％～6％，去离子水为余量。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于仲跻和，未经仲跻和许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200710022356.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种空调器压缩机的新型电机装置
- 下一篇：复合型生氧剂及制备方法
