[发明专利]经修饰的大分子无效
申请号: | 200680053811.1 | 申请日: | 2006-05-15 |
公开(公告)号: | CN101420962A | 公开(公告)日: | 2009-04-29 |
发明(设计)人: | B·J·伯伊德;L·M·卡敏斯卡斯;C·J·H·波特;P·卡尔拉斯;G·Y·克里普纳;B·D·凯利;Z·吴;P·拉兹诺;S·帕利什 | 申请(专利权)人: | 星药股份有限公司 |
主分类号: | A61K31/74 | 分类号: | A61K31/74;A61K31/785;A61K47/48;C08G69/08;C08G69/10;C08G81/00 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 罗菊华 |
地址: | 澳大利亚*** | 国省代码: | 澳大利亚;AU |
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摘要: | 本发明涉及具有受控的末端基团化学计量的大分子,所述大分子包括表面层、至少一个次表面层和至少2种末端基团,所述末端基团包括:其为药学活性剂的残基、其衍生物或为此的前体的第一种末端基团;和选择用于修饰所述药学活性剂和/或大分子的药代动力学的第二种末端基团,其中末端基团化学计量指所述末端基团的数目和类型。 | ||
搜索关键词: | 修饰 大分子 | ||
【主权项】:
1. 具有受控的末端基团化学计量的大分子,所述大分子包括表面层、至少一个次表面层和至少2种末端基团,所述末端基团包括:其为药学活性剂的残基、其衍生物或为此的前体的第一种末端基团;和选择用于修饰所述药学活性剂和/或大分子的药代动力学的第二种末端基团,其中末端基团化学计量指所述末端基团的数目和类型。
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