[发明专利]用于把辐射导向层的装置、具有这种装置的设备以及使用这种设备的方法无效
申请号: | 200680013040.3 | 申请日: | 2006-04-13 |
公开(公告)号: | CN101164111A | 公开(公告)日: | 2008-04-16 |
发明(设计)人: | J·H·M·内詹;H·范桑滕 | 申请(专利权)人: | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
主分类号: | G11B7/26 | 分类号: | G11B7/26;G03F7/20 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 李静岚;谭祐祥 |
地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | 本发明描述了一种用于把辐射导向层(1)的装置。该装置包括:第一光学元件(L1),其用于把源自第一辐射源(S1)的第一辐射束(B1)聚焦到所述层上;第二光学元件(L2),其用于把源自第二辐射源(S2)的第二辐射束(B2)聚焦到所述层上。来自所述第一和所述第二辐射源的辐射波长彼此不同。第一和第二光学元件可以关于所述辐射源联合移动,其中所述两条辐射束的焦点与第一光学元件和第二光学元件关于辐射源的各种移动至少基本上相符。第二光学元件(L2)具有孔径(A2),其允许没有光学干扰地通过第一辐射束(B1)。这样,实现了L1和L2的紧凑而且重量较轻的配置,并且提高了辐射束质量。此外还公开了一种包括所述装置的设备以及一种使用所述设备的方法。 | ||
搜索关键词: | 用于 辐射 导向 装置 具有 这种 设备 以及 使用 方法 | ||
【主权项】:
1.一种用于把辐射导向层(1)的装置,其包括:-第一光学元件(L1),其用于把源自第一辐射源(S1)的第一辐射束(B1)聚焦到所述层上;-第二光学元件(L2),其用于把源自第二辐射源(S2)的第二辐射束(B2)聚焦到所述层上,其中,源自所述第一和所述第二辐射源的辐射波长彼此不同;以及-该第一和第二光学元件可以关于所述辐射源联合移动,其中两条辐射束的焦点与所述第一光学元件和第二光学元件关于所述辐射源的各种移动至少基本上相符,其特征在于,第二光学元件具有孔径(A2),其允许没有光学干扰地通过第一辐射束(B1)。
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