[发明专利]两层光学记录介质有效
申请号: | 200680003004.9 | 申请日: | 2006-03-16 |
公开(公告)号: | CN101107655A | 公开(公告)日: | 2008-01-16 |
发明(设计)人: | 真贝胜;篠塚道明;关口洋义;加藤将纪 | 申请(专利权)人: | 株式会社理光 |
主分类号: | G11B7/258 | 分类号: | G11B7/258;G11B7/243;G11B7/24;G11B7/257;G11B7/254;B41M5/26 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 王冉;王景刚 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 一种两层光学记录介质,包括从光束照射侧按该顺序形成的第一基板、第一信息层、第二信息层和第二基板,其中第一信息层设置有从光束照射侧按该顺序形成的第一下介电层、第一记录层、第一上介电层、第一反射层、和无机介电层;第二信息层设置有从光束照射侧按该顺序形成的第二下介电层、第二记录层、第二上介电层、和第二反射层;且第一反射层由99.8质量%到95.0质量%的含量的Cu和由Ta、Nb、Zr、Ni、Cr、Ge、Au和Mo组成的组中选择的一种或更多的金属制成。 | ||
搜索关键词: | 光学 记录 介质 | ||
【主权项】:
1.一种两层光学记录介质,包括:由光束照射侧观察按顺序形成的第一基板;第一信息层;第二信息层;和第二基板,其中第一信息层设置有从光束照射侧按该顺序形成的第一下介电层、第一记录层、第一上介电层、第一反射层、和无机介电层;第二信息层设置有从光束照射侧按该顺序形成的第二下介电层、第二记录层、第二上介电层、和第二反射层;且第一反射层包含99.8质量%到95.0质量%的含量的Cu和由Ta、Nb、Zr、Ni、Cr、Ge、Au和Mo组成的组中选择的一种或更多的金属且具有4nm到12nm的厚度。
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