[实用新型]局部带有放射源的覆膜支架无效
| 申请号： | 200620158387.4 | 申请日： | 2006-11-16 |
| 公开（公告）号： | CN200966838Y | 公开（公告）日： | 2007-10-31 |
| 发明（设计）人： | 沈阳 | 申请（专利权）人： | 沈阳 |
| 主分类号： | A61M36/00 | 分类号： | A61M36/00;A61F2/82;A61F2/04;A61F2/06;A61L27/00;A61L31/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 102218北京市昌平*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种植入治疗人体血管或非血管肿瘤用的局部带有放射源的覆膜支架，由镍钛合金丝编织支架、医用高分子膜及在支架的表面对应肿瘤位置处设置带有放射性同位素的覆膜组成。本实用新型在保持原有扩张狭窄的功能基础上，避免了全覆放射膜给正常组织带来的损伤，提高了使用的安全性，而且制造工艺简单，加工容易，成本低。 | ||
| 搜索关键词： | 局部 带有 放射源 支架 | ||
【主权项】：
1、一种局部带有放射源的覆膜支架，包括有支架，其特征在于：在支架的表面对应肿瘤位置处设置带有放射性同位素的覆膜。
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