[实用新型]一种腔内倍频低噪声激光器无效
申请号: | 200620072130.7 | 申请日: | 2006-04-01 |
公开(公告)号: | CN200944494Y | 公开(公告)日: | 2007-09-05 |
发明(设计)人: | 于云龙;陈卫民;黄友义;陈惠芳;马英俊;王康俊;吴砺 | 申请(专利权)人: | 福州高意通讯有限公司 |
主分类号: | H01S3/109 | 分类号: | H01S3/109;H01S3/06;H01S3/08;H01S3/16 |
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地址: | 350014福建省福州*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种腔内倍频低噪声激光器,包括前后排列的激光增益介质和非线性倍频晶体,在激光增益介质的激光入射面镀入射膜,在非线性倍频晶体的激光出射面镀出射膜,标准具介质设置在激光增益介质和非线性倍频晶体之间,各元件之间镀标准具介质膜,非线性倍频晶体是基频光的全波片或者半波片。本结构通过采用标准具介质抑制纵模,激光增益介质偏振选模和非线性倍频晶体全波片或者半波片控制腔内本征态,有效地控制了腔内振荡的纵模个数,消除了纵模之间的和频,抑制了噪声,实现了激光器宽温度范围内的低噪声运转,工作温度区间宽,而且可以通过修正镀膜指标达到特殊效果。该结构加工简单,结构紧凑,特别适合制作微片激光器。 | ||
搜索关键词: | 一种 倍频 噪声 激光器 | ||
【主权项】:
1、一种腔内倍频低噪声激光器,包括前后排列的激光增益介质和非线性倍频晶体,在激光增益介质的激光入射面镀对泵浦光增透、对基频光和倍频光高反的入射膜,在非线性倍频晶体的激光出射面镀对基频光高反、对倍频光增透的出射膜,其特征在于:标准具介质设置在激光增益介质和非线性倍频晶体之间,在激光增益介质与标准具介质之间、标准具介质与非线性倍频晶体之间镀标准具介质膜,非线性倍频晶体是基频光的全波片或者半波片。
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