[发明专利]基板支架及其固定构件有效
申请号: | 200610169309.9 | 申请日: | 2006-12-12 |
公开(公告)号: | CN1962188A | 公开(公告)日: | 2007-05-16 |
发明(设计)人: | 魏仲立;林育民;周安正;杜志谦 | 申请(专利权)人: | 友达光电股份有限公司 |
主分类号: | B24B7/24 | 分类号: | B24B7/24;B24B29/02 |
代理公司: | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人: | 潘培坤 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明公开了一种研磨装置及其基板支架和固定构件。该基板支架应用于研磨装置上,其包括定盘及由研磨垫与制止件所形成的固定构件。研磨垫设置于定盘的表面上,其具有多个开孔,且这些开孔的位置对应于基板的尺寸。制止件则穿过研磨垫上的开孔而设置于定盘的表面上,并且这些制止件突出于研磨垫,从而在制止件之间形成一容置区域以设置基板。根据本发明,在制造过程中需要进行换线时,只需改变制止件的设置位置即可进行不同尺寸的基板的研磨,这有效地降低了制造过程的时间及成本。 | ||
搜索关键词: | 支架 及其 固定 构件 | ||
【主权项】:
1、一种固定构件,用以吸附基板,包括:研磨垫,其具有多个第一开孔,其中所述第一开孔的位置对应于该基板的尺寸;及多个制止件,其分别设置于所述第一开孔中,其中所述制止件突出于该研磨垫,且在所述制止件之间形成一容置区域以设置该基板。
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