[发明专利]成像装置与成像方法有效

专利信息
申请号: 200610131012.3 申请日: 2006-12-15
公开(公告)号: CN101055440A 公开(公告)日: 2007-10-17
发明(设计)人: 新美达也 申请(专利权)人: 株式会社理光
主分类号: G03G15/00 分类号: G03G15/00;G03G15/02;G03G5/06;G03G13/00
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 宋莉
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种成像装置,包括用于承载静电潜像的图像承载部件,所述图像承载部件包括基底、含有金属氧化物的中间层、包含电荷传输层和含有有机电荷产生材料的电荷产生层的感光层,用于在图像承载部件上形成静电潜像的成像装置,将该静电潜像用调色剂显影以形成可视图像的显影设备,用于将可视图像转印到记录介质的转印设备,将转印图像定影到该记录介质上的定影设备,以及包含提供波长小于500nm的光的光源用于通过被中间层的金属氧化物所吸收的光对图像承载部件照射以去除其上残余电荷的放电设备。
搜索关键词: 成像 装置 方法
【主权项】:
1、一种成像装置,包括:构造成承载静电潜像的图像承载部件,其包括:基底、含有金属氧化物的中间层、含有电荷传输层和电荷产生层的感光层,所述电荷产生层含有有机电荷产生材料;构造成在图像承载部件上形成静电潜像的成像装置;构造成用调色剂显影静电潜像以形成可视图像的显影设备;构造成将该可视图像转印到记录介质上的转印设备;构造成将转印的图像定影到记录介质上的定影设备;和放电设备,该放电设备包括提供波长小于500nm的光的光源并且该放电设备被构造成通过用被中间层中的金属氧化物吸收的波长小于500nm的光照射图像承载部件对图像承载部件光学放电以去除其上残留的电荷。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社理光,未经株式会社理光许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200610131012.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top