[发明专利]高精度抛光液及其生产方法、用途有效
| 申请号： | 200610086233.3 | 申请日： | 2006-08-23 |
| 公开（公告）号： | CN1919950A | 公开（公告）日： | 2007-02-28 |
| 发明（设计）人： | 孙韬 | 申请（专利权）人： | 孙韬 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 扬州市锦江专利事务所 | 代理人： | 江平 |
| 地址： | 226600江苏省海安县开发区*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 高精度抛光液及其生产方法、用途，涉及用于加工如玻璃制品的抛光液的生产技术领域。先将氧化铈颗粒分散在水中，制成氧化铈悬浮液；再将硅酸盐加入悬浮液中，制成氧化铈、硅酸盐的混合悬浮液；调整氧化铈、硅酸盐的混合悬浮液的pH为8～12；然后，将氧化铈、硅酸盐的混合悬浮液升温至20～90℃，恒温一定时间后，再降温至10～25℃，调节氧化铈、硅酸盐的混合悬浮液的pH值至4～11。用于如氧化硅，硅酸盐，单晶硅等含硅化合物以及其它各种氧化物或半导体或导体表面的抛光、玻璃制品表面抛光、芯片生产的绝缘氧化层的抛光、单晶硅的抛光，都具有平化抛光效率高、不损伤抛光机的特性。 | ||
| 搜索关键词： | 高精度 抛光 及其 生产 方法 用途 | ||
【主权项】：
1、高精度抛光液，其特征在于抛光液的有效成份为氧化铈和硅酸盐，抛光液的pH值至为4～11。
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