[发明专利]聚合物去除剂无效
| 申请号： | 200610059611.9 | 申请日： | 2006-03-10 |
| 公开（公告）号： | CN1840624A | 公开（公告）日： | 2006-10-04 |
| 发明（设计）人： | R·L·奥格;J·F·拉绍斯基 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料有限公司 |
| 主分类号： | C11D3/20 | 分类号： | C11D3/20;H01L21/3105;H01L21/30 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 顾敏 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 提供一种用来从电子器件之类的基片上除去等离子体处理后聚合物残余物的组合物。还提供使用该组合物除去等离子体处理后残余物的方法和制造集成电路的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 聚合物 去除 | ||
【主权项】：
1.一种组合物，该组合物包含：a)氟离子源；b)水；c)选自三卤乙酸、有机多羧酸化合物、有机羟基羧酸化合物和氨基酸的有机酸化合物；以及任选的d)有机溶剂，该组合物的pH值≤4.5。
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