[发明专利]根据共焦显微术的基本原理的测量设备以及方法有效
| 申请号： | 200580047986.7 | 申请日： | 2005-12-01 |
| 公开（公告）号： | CN101115970A | 公开（公告）日： | 2008-01-30 |
| 发明（设计）人： | A·施沃特泽 | 申请（专利权）人： | 塞隆纳牙科系统有限责任公司 |
| 主分类号： | G01B11/24 | 分类号： | G01B11/24;G02B21/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 卢江;刘春元 |
| 地址： | 德国本*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 一种用于共焦测量对象的测量设备包括：光源(1)、成像光学系统(4)和图像检测器(10)。布置装置(11)，用于改变光阑装置(3)与对象(6)之间的光路中的光学路径长度，其中能以预定的方式改变像平面的光学距离；以及设置有装置，以便使由所述光源(1)发射到所述对象(6)上的光(5)和/或由所述对象(6)反射的且射到所述传感器(10)上的光(7)在曝光的曝光周期(tB1)期间在至少一个特性(强度、频率、光谱)方面受到影响，其中，在所述曝光周期(TB1)期间给出被预定为简档的、光(5，7)的特性与像平面距所述成像光学系统(4)的光学距离之间的关系；并且设置有装置，该装置为曝光周期(tB1)提供与观察光路(7)的光特性相关的测量值，其中根据曝光周期(tB1)的测量值和比较值能重建对象(6)的高度坐标(zs)。 | ||
| 搜索关键词： | 根据 显微 基本原理 测量 设备 以及 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于共焦测量对象(6)的测量设备(27)，其包括：光源(1)、用于将由所述光源(1)发射的光(5)聚焦到要测量的对象(6)上的成像光学系统(4)，此外还包括针对在所述对象(6)上散射回且穿过同样的成像光学系统(4)的、目标点(6′)的光(7)的图像检测器(10)，其特征在于，-布置用于改变光阑装置(3)与所述对象(6)之间的光路中的光学路径长度的装置(11)，其中，能以预定的方式改变像平面的光学距离，以及-设置有装置(12，13)，以便在曝光的曝光周期(tb1)期间使由所述光源发射到所述对象(6)上的光(5)和/或由所述对象(6)反射且射到传感器上的光(7)在至少一个特性方面受到影响，其中，在所述曝光周期(tb1)期间给出被预定为简档的、光(5，7)的特性与像平面距所述成像光学系统(4)的光学距离之间的相互关系，以及-设置有装置(10)，所述装置(10)针对曝光周期(tB1)提供与观察光路(7)的光特性相关的测量值，其中，根据曝光周期(tB1)的测量值和比较值能重建对象(6)的高度坐标(zs)。
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