[发明专利]光学记录材料和光学记录介质无效
申请号: | 200580025474.0 | 申请日: | 2005-06-07 |
公开(公告)号: | CN1993234A | 公开(公告)日: | 2007-07-04 |
发明(设计)人: | 矢野亨;滋野浩一 | 申请(专利权)人: | 株式会社艾迪科 |
主分类号: | B41M5/26 | 分类号: | B41M5/26;G11B7/24 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 陈建全 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种光学记录材料,其特征在于,该光学记录材料用于在基体上形成有光学记录层的光学记录介质的该光学记录层中,并含有上述通式(I)所示的花青化合物。式中,环A和环B表示可有取代基的苯环或萘环,X表示O、S、Se、CR3R4或NY,R1和R2中的一个表示下述通式(II)或(III)所示的特定基团,另一个表示碳原子数为1~30的有机基团,R3和R4表示碳原子数为1~30的有机基团,Y、Y1和Y2分别独立地表示氢原子或碳原子数为1~30的有机基团,Z表示氢原子、卤原子或氰基,Anm-表示m价的阴离子,m表示1或2的整数,p表示保持电荷为中性的系数。 | ||
搜索关键词: | 光学 记录 材料 介质 | ||
【主权项】:
1.一种光学记录材料,其特征在于:该光学记录材料用于在基体上形成有光学记录层的光学记录介质的所述光学记录层中,并含有下述通式(I)所示的花青化合物,
式中,环A和环B表示可有取代基的苯环或萘环,X表示O、S、Se、CR3R4或NY,R1和R2中的一个表示下述通式(II)或(III)所示的基团,另一个表示碳原子数为1~30的有机基团,R3和R4表示碳原子数为1~30的有机基团,Y、Y1和Y2分别独立地表示氢原子或碳原子数为1~30的有机基团,Z表示氢原子、卤原子或氰基,Anm-表示m价的阴离子,m表示1或2的整数,p表示保持电荷为中性的系数;
通式(II)中,E和G之间的键是双键或三键,E表示碳原子,G表示碳原子、氧原子或氮原子,x、y和z分别独立地表示0或1,R5表示氢原子、卤原子、可被卤原子取代的碳原子数为1~4的烷基或可被卤原子取代的碳原子数为1~4的烷氧基,R6、R7和R8分别独立地表示氢原子、卤原子或可被卤原子取代的碳原子数为1~4的烷基,R6和R8可以结合形成环结构;通式(III)中,E’和G’之间的键是双键,E’表示碳原子,G’表示碳原子、氧原子或氮原子,含E’和G’的环是可含杂原子的5元环、含杂原子的6元环、萘环、喹啉环、异喹啉环、蒽环或蒽醌环,所述含E’和G’的环可被选自卤原子、硝基、氰基、烷基和烷氧基中的一种以上基团所取代。
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