[发明专利]全息照相记录材料及全息照相记录介质有效

专利信息
申请号: 200580015347.2 申请日: 2005-04-25
公开(公告)号: CN1954272A 公开(公告)日: 2007-04-25
发明(设计)人: 水岛哲郎;塚越拓哉;三浦荣明;吉成次郎 申请(专利权)人: TDK株式会社
主分类号: G03H1/02 分类号: G03H1/02;G03F7/004;G03F7/075;G11B7/0065
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 李贵亮
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 提供一种全息照相记录材料及全息照相记录介质,该全息照相记录材料实现高的折射率变化、柔软性、高灵敏度、低散射、耐环境性、耐久性、低尺寸变化及高多重性,适用于体积型全息照相记录。一种全息照相记录材料,其包含有机金属化合物和光聚合性化合物,其中,所述有机金属化合物至少具有至少2种金属、氧及芳香族基团、且含有2个芳香族基团直接键合在1个金属上的有机金属单元。所述至少2种金属中的1种是Si,Si以外的其他金属优选选自由Ti、Zr、Ge、Sn、Al及Zn构成的群组。所述有机金属单元优选2个芳香族基团直接键合在1个Si上。全息照相记录介质(11),其具有全息照相记录材料层(21)。
搜索关键词: 全息照相 记录 材料 介质
【主权项】:
1、一种全息照相记录材料,其包含有机金属化合物和光聚合性化合物,所述有机金属化合物至少具有至少2种金属、氧及芳香族基团、且含有2个芳香族基团直接键合在1个金属上的有机金属单元。
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