[发明专利]酸槽与反应槽稳定度的侦测方法有效
| 申请号： | 200410102685.7 | 申请日： | 2004-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN1796994A | 公开（公告）日： | 2006-07-05 |
| 发明（设计）人： | 张原勋;黄良田;吕志原;许哲恺;林依亮 | 申请（专利权）人： | 旺宏电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N33/00 | 分类号： | G01N33/00;G01N21/55;G01N21/00;G01B11/30 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 王学强 |
| 地址： | 台湾省新竹*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种酸槽与反应槽稳定度的侦测方法。其中，酸槽稳定度的侦测方法是先提供一基底，再在此基底面形成一多晶质层。然后，将形成有多晶质层的基底放置到酸槽内，进行反应制程。接着取出此基底，以及利用一表面破坏检测机台对此基底的多晶质层表面进行量测，以判定酸槽的稳定度。此方法是利用多晶质层晶粒边界反应较快的特性，通过表面破坏检测机台，可以直接且快速得知多晶质层的表面结构是否因酸槽的稳定度不佳而受到损害。 | ||
| 搜索关键词： | 反应 稳定 侦测 方法 | ||
【主权项】：
1.一种酸槽稳定度的侦测方法，其特征在于：适于侦测酸槽在反应制程期间的稳定度，包括：提供一基底；在该基底表面形成多晶质层；将形成有多晶质层的基底放置到酸槽内进行反应制程；取出该基底；以及利用一表面破坏检测机台对该基底的多晶质层表面进行量测，以判定该酸槽的稳定度。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于旺宏电子股份有限公司，未经旺宏电子股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200410102685.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：棉花显性无腺体基因的分子标记
- 下一篇：带有导流帽的阀瓣
