[发明专利]颗粒状阴离子表面活性剂的制造方法有效
申请号: | 200410071000.7 | 申请日: | 2004-08-06 |
公开(公告)号: | CN1590524A | 公开(公告)日: | 2005-03-09 |
发明(设计)人: | 梅原正裕;山下博之;佐久间泰光;三好一仁 | 申请(专利权)人: | 花王株式会社 |
主分类号: | C11D1/14 | 分类号: | C11D1/14 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人: | 龙淳 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明涉及在具有搅拌叶片和破碎叶片的造粒机中,在减压下向粉体原料中添加阴离子表面活性剂膏,同时干燥并造粒,得到含有80~99.5重量%的阴离子表面活性剂颗粒的颗粒状阴离子表面活性剂的制造方法,按照该制造方法制得的颗粒状阴离子表面活性剂,以及含有该颗粒状阴离子表面活性剂的洗剂组合物和水泥用添加剂。 | ||
搜索关键词: | 颗粒状 阴离子 表面活性剂 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.颗粒状阴离子表面活性剂的制造方法,其特征在于,在具有搅拌叶片和破碎叶片的造粒机内,在减压下连续向粉体原料中添加阴离子表面活性剂膏,同时干燥并造粒,得到含有80~99.5重量%的阴离子表面活性剂的颗粒状物。
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