[发明专利]微粒清除设备有效
| 申请号： | 200410059426.0 | 申请日： | 2004-06-18 |
| 公开（公告）号： | CN1595237A | 公开（公告）日： | 2005-03-16 |
| 发明（设计）人： | 金岩 | 申请（专利权）人： | 友达光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/13 | 分类号： | G02F1/13;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 董惠石 |
| 地址： | 台湾省*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种微粒清除设备，是与一制程反应室结合配置，可在一对象进入此制程反应室之前预先对此对象进行清洁；于制程反应室入口处设有闸门；微粒清除设备则设置于闸门前方，其包括一离子气流吹出装置及一吸尘装置，其中离子气流吹出装置具有一离子产生器以及一喷嘴，离子产生器可将其周围的气体离子化，并利用喷嘴将离子化的气体吹出。在该对象进入该制程反应室的过程中，离子气流吹出装置所吹出的离子化气体可中和对象表面的静电荷并将其表面的微粒扬起，再藉由吸尘装置吸入微粒，最后对象经闸门进入制程反应室内。 | ||
| 搜索关键词： | 微粒 清除 设备 | ||
【主权项】：
1.一种微粒清除设备，装设在一制程反应室的闸门前方，可在一对象进入该制程反应室之前预先对该对象进行清洁，其包括：一离子气流吹出装置，设置于该闸门前方，其包括一离子产生器以及一喷嘴，该离子产生器可将其周围的气体离子化，并利用该喷嘴将离子化的气体吹出；以及一吸尘装置，设置于该闸门与该离子气流吹出装置之间；在该对象进入该制程反应室的过程中，该离子气流吹出装置所吹出的离子化气体可中和该对象表面的静电荷并将其表面的微粒扬起，再藉由该吸尘装置吸入微粒，最后该对象经由该闸门进入该制程反应室内。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于友达光电股份有限公司，未经友达光电股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200410059426.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
