[发明专利]减少羟基引起的吸收的光纤用玻璃母材及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200410031004.2 申请日: 2004-04-05
公开(公告)号: CN1541962A 公开(公告)日: 2004-11-03
发明(设计)人: 乙坂哲也;井上大;小山田浩;平沢秀夫 申请(专利权)人: 信越化学工业株式会社
主分类号: C03B37/012 分类号: C03B37/012;C03B37/018;C03B37/02
代理公司: 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 代理人: 寿宁;张华辉
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明是关于一种减少羟基引起的吸收的光纤用玻璃母材及其制造方法,其提供一种成本低,且OH基少而减少了吸收的光纤用玻璃母材及其制造方法。该方法是包括制作具有芯部和包层的一部分的芯棒,在该芯棒的外周堆积玻璃微粒形成追加包层,然后将得到的多孔质母材进行焙烧·透明玻璃化处理的光纤用玻璃母材的制造方法,其特征在于,将该光纤用玻璃母材进行拉丝得到的光纤,在令上述芯棒相当部的外径为a,令波长1385nm处的模态场径为m时,其比满足3.75≤a/m≤6的关系地制作上述芯棒。
搜索关键词: 减少 羟基 引起 吸收 光纤 玻璃 及其 制造 方法
【主权项】:
1、一种减少羟基引起的吸收的光纤用玻璃母材的制造方法,其特征在于其包括制作具有芯部和包层的一部分的芯棒,在该芯棒的外周堆积玻璃微粒形成追加包层,然后将得到的多孔质母材进行焙烧·透明玻璃化处理的光纤用玻璃母材的制造方法,其特征在于,将该光纤用玻璃母材进行拉丝得到的光纤,在令上述芯棒相当部的外径为a,令波长1385nm处的模态场径(Mold Field Diameter)为m时,其比满足3.75≤a/m≤6的关系地制作上述芯棒。
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