[发明专利]成像光学系统的像差评估方法及其调整方法无效
| 申请号： | 03105337.8 | 申请日： | 2003-02-24 |
| 公开（公告）号： | CN1441236A | 公开（公告）日： | 2003-09-10 |
| 发明（设计）人： | 松山知行 | 申请（专利权）人： | 尼康株式会社 |
| 主分类号： | G01M11/02 | 分类号： | G01M11/02 |
| 代理公司： | 北京集佳专利商标事务所 | 代理人： | 王学强 |
| 地址： | 暂无信息 | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种利用同时表现成像光学系统的像差的瞳内分布与像面内分布，可解析评估成像光学系统的像差的评估方法，包括设定一像差多项式，以像面坐标与瞳面坐标为函数，一般性表示投影光学系统PL的像差；于投影光学系统PL的一像面上多个点，测定其波面像差；由测定步骤所得到的波面像差，近似由瞳面坐标为函数之一所定多项式；根据近似步骤所得到的所定多项式的各项的系数，而决定像差多项式的各项系数。 | ||
| 搜索关键词： | 成像 光学系统 评估 方法 及其 调整 | ||
【主权项】：
1.一种成像光学系统的像差评估方法，其特征是，该方法包括：一设定步骤，设定一像差多项式，以像面坐标与瞳面坐标为函数，一般性表示该成像光学系统的像差；一测定步骤，于该成像光学系统的一像面上多个点，测定该成像光学系统的一波面像差；一近似步骤，由该测定步骤所得到的该波面像差，近似由瞳面坐标为函数的一设定多项式；以及一决定步骤，根据该近似步骤所得到该设定多项式的各项系数，而决定该像差多项式的各项系数。
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