[发明专利]用于离子注入机的可调传动限制缝隙有效
| 申请号： | 02805094.0 | 申请日： | 2002-01-16 |
| 公开（公告）号： | CN1535470A | 公开（公告）日： | 2004-10-06 |
| 发明（设计）人： | 安东尼·丽奥;埃里克·戴维·赫曼森;杰·托马斯·施尤尔 | 申请（专利权）人： | 瓦里安半导体设备联合公司 |
| 主分类号： | H01J37/18 | 分类号： | H01J37/18;H01J37/317;H01J37/09 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 过晓东 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种带电微粒射束装置包括：带电微粒射束源，用于在下游方向上沿着射束路径引导带电微粒射束到达靶；和确定靶腔的处理台。处理台包括腔分隔物，该分隔物在带电微粒束处理靶期间，将靶腔分为上游和下游区域。靶被置于下游区域，并且分隔物具有从其上穿过的缝隙，该缝隙的尺寸允许带电微粒射束穿过到达靶，而几乎没有阻挡，并且限制气体回流到腔的上游区域。分隔物将暴露于在靶上产生的外部核素的射束体积最小化，由此减少射束变化碰撞的可能性。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 离子 注入 可调 传动 限制 缝隙 | ||
【主权项】：
1.一种带电微粒射束装置，包括：带电微粒射束源，用于在下游方向上沿着射束路径引导带电微粒射束到达靶；以及确定靶腔的处理台，该处理台包括腔分隔物，该分隔物在带电微粒束处理靶期间，将靶腔分为上游和下游区域，靶被置于下游区域，并且分隔物具有从其上穿过的缝隙，该缝隙的尺寸允许带电微粒射束穿过到达靶，而几乎没有阻挡，并且限制气体回流到腔的上游区域。
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