[实用新型]气体喷嘴无效
| 申请号： | 01240304.0 | 申请日： | 2001-04-11 |
| 公开（公告）号： | CN2470007Y | 公开（公告）日： | 2002-01-09 |
| 发明（设计）人： | 周圈;常本恩 | 申请（专利权）人： | 周圈;常本恩 |
| 主分类号： | B05B1/00 | 分类号： | B05B1/00;C22B9/05 |
| 代理公司： | 中国科学院兰州专利事务所 | 代理人： | 王玉双 |
| 地址： | 452385 *** | 国省代码： | 河南;41 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及冶金行业领域,具体地说是一种用于硅铁或工业硅等产品炉外精炼使用的气体喷嘴。含有气盒和喷嘴体结构,气盒上开有进气孔,气盒内与喷嘴体内的输气管相连通。本实用新型能适应不同气体压力的要求,结构合理、制作简单、使用效果好,成本低,可进一步提高硅铁或工业硅等产品的内在质量。 | ||
| 搜索关键词： | 气体 喷嘴 | ||
【主权项】：
1、一种气体喷嘴，包括气盒(2)和喷嘴体(3)，气盒(2)喷嘴体(3)为相触，其特征是气盒(2)上开有进气孔(1)，喷嘴体(3)内设有输气管(4)，输气管(4)一端与气盒(2)内相通，另一端与喷嘴体(3)外部相通。
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