[发明专利]真空绝缘开关装置及其制造方法无效

专利信息
申请号: 01117205.3 申请日: 2001-04-24
公开(公告)号: CN1320941A 公开(公告)日: 2001-11-07
发明(设计)人: 宫本圣一;丸山稔正;佐藤俊文;糸谷孝行;小林稔 申请(专利权)人: 三菱电机株式会社
主分类号: H01H33/66 分类号: H01H33/66
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 张天安,温大鹏
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 提供一种能够以低成本进行生产的、并能够形成可靠性优异的导电层的真空绝缘开关装置。在真空容器5内收容有分断部等多个开关部,将该真空容器5以绝缘物7进行浇注,利用喷镀被膜8使该绝缘物7的表面具有导电性。
搜索关键词: 真空 绝缘 开关 装置 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种真空绝缘开关装置,具有:容纳开关部的真空容器,覆盖该真空容器的浇注绝缘体,以及覆盖上述浇注绝缘体表面的导电被膜;上述导电被膜是将从Al、Cu、Ag、Ni、Cr、Fe、Ti、Zr所组成的群组中所选择的至少一种金属在大气中喷镀到上述浇注绝缘体的表面上而形成。
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