“U·德瓦斯”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果9个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]具有防护层的阴图制版可成像元件-CN201080011751.3无效
发明人： C·辛普森;H·鲍曼;U·德瓦斯;B·斯特勒默尔 -专利权人：伊斯曼柯达公司
申请日： 2010-03-08 - 公布日： 2012-02-08 - 主分类号： G03F7/09 文献下载
摘要：阴图制版可成像元件可用于提供平版印版。所述可成像元件具有合适的对辐射敏感的可成像层和设置在所述可成像层上的水溶性防护层。该防护层包含至少一种皂化度为至少90％的聚乙烯醇、烷醇的烷氧基化产物和2-磺酸基琥珀酸二烷基酯、或1，4-丁二醇的烷氧基化产物。
具有防护制版成像元件

[发明专利]具有改进的耐磨损性的负性工作可成像元件-CN200980109009.3有效
发明人： G·豪克;C·萨瓦里亚-豪克;U·德瓦斯;H·鲍曼;B·施特勒默尔;C·辛普森 -专利权人：伊斯曼柯达公司
申请日： 2009-02-12 - 公布日： 2011-02-09 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：用辐射敏感性可成像层制备的负性工作可成像元件，该辐射敏感性可成像层含有表面改性的二氧化硅颗粒例如热解法二氧化硅颗粒和溶胶凝胶二氧化硅颗粒，所述颗粒按大约1-大约40重量％的量存在，具有大约1-大约500nm的平均粒度，具有表面羟基，并具有大约0.5-大约15重量％的源自含1-30个碳原子的表面疏水性基团的碳含量。所述表面改性的二氧化硅颗粒的存在提供改进的耐磨性、降低的粘性和各种其它期望的性能。
具有改进耐磨工作成像元件

[发明专利]带有具有1H-四唑基团的成分的可成像元件-CN200880118874.X有效
发明人： H·鲍曼;U·德瓦斯;B·施特勒梅尔;C·辛普森;C·萨瓦里亚-豪克;G·豪克 -专利权人：伊斯曼柯达公司
申请日： 2008-11-21 - 公布日： 2010-11-10 - 主分类号： G03F7/033 文献下载
摘要：辐射敏感组合物和可成像元件包括在可成像层中的聚合物或非聚合物组分，该组分包括1H-四唑基团。非聚合物组分可以为可自由基聚合化合物。聚合物组分可以具有挂在主链上的1H-四唑基团。在负片型或正片型可成像元件中使用这些成分提供了高曝光速度和改进的可显影性，以提供具有改进的耐化学品性和耐印力的成像后或显影后元件，例如平板印版。
带有具有基团成分成像元件

[发明专利]制造平版印版的方法-CN200680005249.5无效
发明人： H·鲍曼;U·费巴希;U·德瓦斯;B·施特雷梅尔;M·弗卢格尔;H·－J·廷珀 -专利权人：柯达彩色绘图有限责任公司
申请日： 2006-02-01 - 公布日： 2009-03-18 - 主分类号： G03F7/32 文献下载
摘要：制造平版印版的方法，该方法包括：(a)提供具有亲水性表面的平版底材；(b)将阴图制版辐射感光组合物施涂于该亲水性表面上，其中该组合物包括：(i)一种或多种类型的单体和/或低聚物和/或聚合物，各自包括至少一个可供自由基聚合的烯属不饱和基团，(ii)至少一种感光剂，在至少一种助引发剂的存在下，在用波长300到＜480nm或＞750到1,100nm的辐射照射时该感光剂引发组分(i)的自由基聚合；和(iii)至少一种具有酸性官能团的粘结剂，并且该组合物对480-750nm的波长范围基本上不感光；(c)取决于所使用的感光剂或引发剂体系，所得阴图制版平版印版前体用选自波长范围为300到＜480nm或＞750到1,100nm的辐射中的辐射成像曝光；和(d)通过用pH值为9-14的碱性显影剂处理而除去未照射区，该碱性显影剂包括：(i)水，(ii)其量足以将pH值调节在9-14范围内的一种或多种碱金属氢氧化物，和(iii)1-30wt％的至少一种式(I)的化合物，其中R¹、R²、R³和R⁴各自独立地选自C₁-C₁₂烷基和芳基，X选自-CH＝CH-，-C≡C-，式(II)、式(III)和式(IV)，n+m为2-30的值，p+q为0-30的值，其中在p+q≠0的情况下，氧化乙烯和氧化丙烯单元作为嵌段存在或无规分布。
制造平版方法

[发明专利]适于平版印刷印版的感光聚合物组合物-CN200780001847.X有效
发明人： H·鲍曼;B·斯特勒梅尔;U·德瓦斯;U·米勒 -专利权人：柯达图形通信有限责任公司
申请日： 2007-01-02 - 公布日： 2009-03-04 - 主分类号： G03F7/027 文献下载
摘要：一种辐射敏感元件，所述元件包括底材和辐射敏感涂层，所述辐射敏感涂层包含(a)至少一种选自光引发剂和敏化剂/共引发剂体系的组分，它吸收波长范围为250－1,200nm的辐射；(b)至少一种由GPC测定的平均分子量在3,500－9,000范围内的可自由基聚合的低聚物A，它通过使三异氰酸酯与(i)至少一种具有两个游离OH基团和至少一个(甲基)丙烯酸类基团的丙烯酸类或甲基丙烯酸类单体和(ii)至少一种分子内包含一个OH基、至少一个(甲基)丙烯酸类基团和至少一个聚(环氧烷)链的化合物反应来得到，其中基于具有OH官能团的(甲基)丙烯酸类化合物的总量计算，(甲基)丙烯酸类单体(i)的存在量为2－20％摩尔。
适于平版印刷感光聚合物组合

[发明专利]适用于平版印刷版的感光聚合物组合物-CN200680026706.9有效
发明人： H·鲍曼;B·施特勒梅尔;D·皮特施;U·德瓦斯;T·埃布哈德特;A·德拉贝尔 -专利权人：伊斯曼柯达公司
申请日： 2006-07-03 - 公布日： 2008-07-23 - 主分类号： G03F7/027 文献下载
摘要：一种射线敏感元件，其包括(a)基底，和(b)射线敏感涂层，所述涂层包含(i)至少一种选自光引发剂和敏化剂/共引发剂系统的组分，该组分吸收250－1,200nm波长的辐射；(ii)至少一种式(I)的低聚物A，其中X¹、X²和X³独立选自直链或环状C₄－C₁₂亚烷基和C₆－C₁₀亚芳基、杂环基、杂芳基及上述两种或多种的组合，R¹、R²和R³独立选自(II)和(III)，其条件为(1)在R¹、R²和R³的至少一个基团中，n＝0，和(2)在R¹、R²和R³的至少一个基团中，n＞2，及(3)在式(III)中，至少一个基团R⁶不为H。
适用于平版印刷感光聚合物组合

[发明专利]具有低聚或聚合敏化剂的平版印版前体-CN200580039486.9无效
发明人： B·施特雷梅尔;H·鲍曼;U·德瓦斯;D·彼得施;A·德拉贝尔;M·默萨尔 -专利权人：柯达彩色绘图有限责任公司
申请日： 2005-11-11 - 公布日： 2007-10-24 - 主分类号： G03F7/031 文献下载
摘要：平版印版前体，其包括(a)具有亲水性表面的平版底物，和(b)在亲水性表面上的辐射－感光涂层，其包含(i)一种或多种单体和/或低聚物和/或聚合物，每个都包含至少一个易进行自由基聚合的烯键式不饱和基团，(ii)至少一种敏化剂，和(iii)至少一种共引发剂，其能够与敏化剂(ii)一起形成自由基；其特征为，至少一种敏化剂是包括以下结构单元(通式(I))的低聚或者聚合化合物，其中π₁是芳族或杂芳族单元或者两者的结合，使得共轭π－体系存在于结构(I)中的两个基团Z之间，每个Z独立地表示杂原子，每个R¹和R²独立地选自卤素原子、烷基、芳基、烷基芳基或芳烷基、基团－NR³R⁴和基团－OR⁵，每个R³、R⁴和R⁵独立地选自烷基、芳基、烷基芳基和芳烷基，a和b独立地表示0或1－4的整数，n的值大于1，和AS是脂族间隔基团。
具有聚合敏化剂平版印版前体

[发明专利]辐射敏感组合物和以其为基础的可成像元件-CN200480036031.7无效
发明人： H·鲍曼;U·德瓦斯;M·弗卢格尔 -专利权人：柯达彩色绘图有限责任公司
申请日： 2004-11-18 - 公布日： 2007-01-03 - 主分类号： G03F7/031 文献下载
摘要：辐射敏感组合物，其包含(a)至少一种可光聚合的化合物，其具有至少一个能够进行自由基聚合的烯属不饱和基团，其中所述至少一种可光聚合的化合物具有3,000或者以下的分子量，并且能够通过二异氰酸酯与(i)具有羟基基团的烯属不饱和化合物和同时(ii)具有NH基团和OH基团的饱和有机化合物反应进行制备，其中所述反应物以根据以下条件的量使用：异氰酸酯基团的摩尔数≤OH加NH基团的摩尔数；(b)至少一种敏化剂，其吸收电磁波谱的波长范围为250到450纳米的辐射，并且选自：通式(I)的二氢吡啶和通式(II)的噁唑衍生物：(II)(c)至少一种共引发剂，其能够与敏化剂(b)一起形成自由基，并且选自2，2’，4，4’，5，5’－六芳基双咪唑、具有至少一个可光解地分裂的三卤甲基基团的化合物、二芳基碘鎓盐、三芳基锍盐和在环中具有至少一个氮原子、在至少一个环中的氮原子处具有氧基取代基的N－杂环化合物，以及上述化合物的混合物；和(d)任选地一种或多种选自以下的组分：碱－可溶性的粘合剂、着色剂、曝光指示剂、增塑剂、链转移剂、无色染料、表面活性剂、无机填料和热聚合抑制剂；条件是，所述辐射敏感组合物不包含茂金属。
辐射敏感组合以其基础成像元件

[发明专利]含噁唑衍生物的射线敏感组合物和基于它的可成象元件-CN200480004823.6无效
发明人： H·鲍曼;U·德瓦斯;D·皮特施;M·弗鲁格尔 -专利权人：柯达彩色绘图有限责任公司
申请日： 2004-02-20 - 公布日： 2006-03-22 - 主分类号： G03F7/031 文献下载
摘要：一种射线敏感元件，它包含(a)一种或多种单体，各自包含至少一种可参与自由基聚合的烯属不饱和基团，(b)至少一种增感剂，(c)至少一种能与增感剂(b)一起形成自由基的助引发剂，选自下列化合物类别：金属茂；具有1～3个CX₃基团的1，3，5－三嗪衍生物，其中X代表氯或溴；过氧化物；六芳基双咪唑；肟醚；肟酯；N－芳基甘氨酸及其衍生物；硫醇化合物；N－芳基、S－芳基和O－芳基多羧酸，具有至少两个羧基基团，其中至少一个键合在芳基单元的N、S或O原子上；烷基三芳基硼酸酯；苯偶姻醚；苯偶姻酯；三卤代甲基－芳基砜；胺；N，N－二烷基氨基苯甲酸酯；芳基磺酰卤；三卤代甲基砜；酰亚胺；重氮磺酸盐；9，10－二氢蒽衍生物；α－羟基和α－氨基乙酰苯；和(d)任选地一种或多种组分，选自碱溶性粘合剂、着色剂、曝光指示剂、增塑剂、链转移剂、隐色染料、表面活性剂、无机填料和热聚合抑制剂，特征在于，至少一种增感剂是通式(I)的噁唑衍生物，其中每个R¹、R²和R³独立地选自卤素原子、任选取代的烷基基团、任选取代的芳基基团，后者也可以稠合，任选取代的芳烷基基团、基团－NR⁴R⁵和基团－OR⁶，其中R⁴和R⁵独立地选自氢原子、烷基、芳基或芳烷基基团，R⁶是烷基、芳基或芳烷基基团或氢原子，且k、m和n独立地是0或1～5的整数。
含噁唑衍生物射线敏感组合基于成象元件

1
共 9 条