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[发明专利]电化学电池单元的连接装置-CN202180040934.6在审
发明人： S.阿格达伊;A.基亚特;T.里斯布里杰;T.弗利;H.琼朱斯;L.特纳 -专利权人：伊利卡科技有限公司
申请日： 2021-04-27 - 公布日： 2023-01-31 - 主分类号： H01M50/124 文献下载
摘要：一种电化学电池单元至少包括以下列顺序堆叠的下列层:第一电极层、电解质层、第二电极层、集电器层和保护覆盖层；该保护覆盖层包括电绝缘材料。该电池单元还包括导电接触垫，该导电接触垫被构造成使得电池单元能够连接到外部设备，该接触垫被提供在保护覆盖层的与集电器层相对的外侧上，并且包括围绕其周界由电绝缘材料界定的暴露表面。导电路径设置在接触垫和集电器层之间，导电路径延伸穿过保护覆盖层并在连接点处接触集电器层的面。
电化学电池单元连接装置

[发明专利]用于电池单元的组件材料的制造方法-CN202080077864.7在审
发明人： G.阿雷斯塔;L.特纳;T.福利;T.里斯布里杰;B.海登;W.理查德森;R.诺布尔;O.克拉克 -专利权人：伊利卡科技有限公司
申请日： 2020-09-29 - 公布日： 2022-07-08 - 主分类号： H01M6/40 文献下载
摘要：提供用于电池单元的组件材料的制造方法。该方法包括以下步骤：提供部分制造的电池单元，所述部分制造的电池单元包括具有平坦的沉积表面的基板和设置在所述平坦的沉积表面上的第一电池组件层，所述平坦的沉积表面由所述基板的第一面组成，所述基板具有多个另外的表面，所述平坦的沉积表面和所述多个另外的表面限定在其间的基板主体；其中：第一电池组件层包含带电荷的金属物种并具有暴露的表面；一个或多个导电或半导电路径延伸穿过所述基板的至少一部分，所述一个或多个路径各自将所述平坦的沉积表面连接至所述多个另外的表面之一；以及使所述部分制造的电池单元通过保持结构体在沉积室内保持就位，并且所述一个或多个路径之一与所述保持结构体之间的每个连接位点都是电绝缘的；该方法还包括在所述第一电池组件层上沉积第二电池组件层的步骤，其中所述沉积包括在所述沉积室内形成等离子体。
用于电池单元组件材料制造方法

[发明专利]处理层状结构的方法-CN202080020839.5在审
发明人： O.克拉克;L.特纳;B.E.海登;T.里斯布里杰;T.福利;S.阿格达伊 -专利权人：伊利卡科技有限公司
申请日： 2020-03-12 - 公布日： 2021-12-14 - 主分类号： H01M10/04 文献下载
摘要：一种处理叠层以提供一叠分立层元件的方法，包括步骤：提供一叠层，该叠层包括：由第一材料提供的第一层(20)；由固体电解质提供的第三层(16)；和位于第一和第三层之间的第二层(18)，第二层具有至少500nm的厚度并由包含至少95原子％非晶硅的第二材料提供；移除第一层(20)的贯穿厚度部分以形成由第一材料提供的第一分立层元件(20a)；去除第二层(18)的贯穿厚度部分以形成由第二材料提供的第二分立层元件(18a)，第二分立层元件位于第一分立层元件(20a)和固体电解质之间；和使用第二分立层元件(18a)作为蚀刻掩模蚀刻第三层(16)，以形成由固体电解质提供的第三分立层元件(16a)；其中第一、第二和第三分立层元件提供该一叠分立层元件。
处理层状结构方法

[发明专利]成分、其制造方法及其用途-CN201980024389.4在审
发明人： L.珀金斯;W.理查森;L.特纳;T.里斯布里杰;S.格林;B.海登;O.克拉克;R.诺布尔;J-P.索莱;P.凯西;K.吉亚格洛格卢 -专利权人：伊利卡科技有限公司
申请日： 2019-04-02 - 公布日： 2021-01-08 - 主分类号： H01M4/525 文献下载
摘要：提供一种成分，包括：(a)主相，其由具有属于R‑3m空间群的岩盐结构的层状混合金属氧化物提供；所述层状混合金属氧化物包括以下组成元素：45至55原子％的锂；20至55原子％一种或多种过渡金属，其选自铬、锰、铁、镍、钴及其组合；和0至25原子％一种或多种另外的掺杂剂元素，其选自：镁、钙、锶、钛、锆、钒、铜、钌、锌、钼、硼、铝、镓、锡、铅、铋、镧、铈、钆和铕；其中所述原子％表示为所述层状氧化物的不包括氧的总原子的％；(b)次相，其由不具有层状混合金属氧化物的晶体结构的金属氧化物提供，该次相包括包含在层状混合金属氧化物中的过渡金属的一种或多种，该过渡金属选自铬、锰、铁、镍和钴。还提供制备所述成分的方法以及包含该成分的电极和单元电池、特别是固态电池。与化学组成相似的较光滑的晶体相比，所述晶体的粗糙形态赋予优势，特别是在固态电池中。
成分制造方法及其用途

[发明专利]薄膜结构的激光处理方法-CN201980021879.9在审
发明人： B.海登;L.特纳;T.里斯布里杰;T.福利;N.里兹维 -专利权人：伊利卡科技有限公司
申请日： 2019-04-02 - 公布日： 2020-12-25 - 主分类号： B23K26/36 文献下载
摘要：一种处理薄膜结构的方法，包括：提供薄膜结构，该薄膜结构包括支撑在基板表面上的两个或多个薄膜层的堆叠体，所述堆叠体具有与基板表面垂直的深度；以及通过使用直写激光技术沿着覆盖堆叠体表面上的期望的切割线的区域的扫描路径扫描激光束，以沿着切割线并且穿过堆叠体的深度至少到基板的表面烧蚀堆叠体的材料，形成穿过所述堆叠体的深度的切割部；其中，直写激光技术是使用超短脉冲激光器来实现的，所述超短脉冲激光器输出的脉冲的持续时间为1000飞秒或更少，波长范围为100至1500nm，并且传递的通量的范围为50至100000mJ/cm2。
薄膜结构激光处理方法