专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]用于触控面板的透明体及制造透明体的方法-CN201280071777.6有效
  • J·格里尔梅耶;T·W·齐尔鲍尔 - 应用材料公司
  • 2012-03-30 - 2018-04-10 - G06F3/041
  • 提供了一种制造用于触控屏幕面板的透明体的工艺。所述工艺包括沉积第一透明层堆迭(12)于透明基板(14)之上,其中所述第一透明层堆迭(12)至少包括具有第一折射率的第一介电膜(16)和具有第二折射率的第二介电膜(18),第二折射率不同于第一折射率;提供结构化的透明导电膜(22),使得第一透明层堆迭(12)和透明导电膜(22)依此顺序配置在基板(14)上,且其中结构化的透明导电膜具有100欧姆/平方(Ohm/square)或更低的片电阻;以及沉积第二透明层堆迭于透明导电膜之上,其中所述第二透明层堆迭至少包括具有第三折射率的第三介电膜,和具有第四折射率的第四介电膜或透明黏着物,其中第一透明层堆迭、结构化的透明导电膜和第二透明层堆迭依此顺序提供。
  • 用于面板透明体制造方法
  • [其他]用于在基板上沉积材料的设备-CN201490001446.X有效
  • T·W·齐尔鲍尔;A·赫尔米希;R·欣特舒斯特;U·慕尔菲德;B·斯托克;H·G·沃尔夫;M·班德尔 - 应用材料公司
  • 2014-05-20 - 2018-01-09 - C23C14/56
  • 提供一种用于在基板上沉积材料的沉积设备(300)。沉积设备(300)包括两个或更多的处理腔室,包括第一处理腔室(310)及第二处理腔室(320);基板支撑件(330),至少延伸通过第一处理腔室(310)及第二处理腔室(320);及两个或更多的沉积源组件,包括第一处理腔室(310)中的第一沉积源组件(350)及第二处理腔室(320)中的第二沉积源组件(360)。该两个或更多的沉积源组件的每一个包括配置成支撑至少一个第一沉积源与至少一个工艺装置的至少一沉积源支撑件(351,361)。该至少一个沉积源支撑件(351,361)配置成至少在第一位置与第二位置之间是可移动的。在第一位置中,至少一个第一沉积源取向朝向基板支撑件(330),在第二位置中,至少一个工艺装置取向朝向基板支撑件(330)。
  • 用于基板上沉积材料设备
  • [发明专利]具有气体供应的沉积装置及沉积材料的方法-CN201380073525.1无效
  • T·W·齐尔鲍尔;M·班德尔 - 应用材料公司
  • 2013-02-25 - 2015-11-11 - C23C14/00
  • 描述了一种用于在基板(310)上沉积材料的装置。装置包括真空腔室(300);基板接收部(305),基板接收部(305)位于真空腔室中,用以在沉积材料的期间内接收基板;靶材支撑件(320),靶材支撑件(320)用以在沉积材料于基板(305)上的期间内固持靶材(330);等离子体产生装置,等离子体产生装置位于真空腔室(300)中,用以于基板接收部(305)与靶材支撑件(320)之间产生等离子体;以及第一气体入口(360),第一气体入口(360)用以提供气体超音速流(365),其中所述第一气体入口是导向基板接收部(305)。再者,还描述了一种在真空腔室(300)中沉积材料于基板(310)上的方法。所述方法包括于基板(310)与靶材(330)之间形成等离子体、利用等离子体从靶材(330)释出粒子(335),以及导引第一气体的超音速流(365)朝向基板的表面,所述材料将被沉积于基板的表面上。
  • 具有气体供应沉积装置材料方法

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