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[发明专利]用于电离散射辐射的屏蔽罩及其生产方法-CN202310147919.2在审
发明人： O·苏赫;S·勒格纳;P·特莱斯;K·泰伯;M·达尔吉 -专利权人：肖特股份有限公司;肖特北美公司
申请日： 2023-02-22 - 公布日： 2023-09-01 - 主分类号： G21K1/02 文献下载
摘要：本发明的目的是为提供一种用于X射线成像设备的屏蔽X射线散射辐射的改进栅。为此，提供了一种防止X射线散射辐射的屏蔽栅(1)，包括‑具有第一侧(5)和与第一侧(5)相反的第二侧(7)的板(3)，其中板(3)‑具有一系列朝板(3)的第二侧(7)开放的凹槽(15)，并且其中‑板(3)包括朝第一侧(5)开放的沟槽(11)的栅(9)，其中‑沟槽(11)填充有X射线吸收材料(13)，并且其中‑从一侧(5、7)看，沟槽(11)在凹槽(15)之间延伸并与凹槽(15)有一定距离，使得壁(19)保留在凹槽和沟槽(11)之间。
用于电离散射辐射屏蔽及其生产方法

[发明专利]光隔离阵列-CN202180075965.5在审
发明人： O·苏赫;S·勒格纳;K·泰伯;M·达尔吉;E·汉 -专利权人：肖特公司;肖特股份有限公司
申请日： 2021-11-16 - 公布日： 2023-08-08 - 主分类号： G02B6/10 文献下载
摘要：本公开涉及光隔离阵列(也可称为“光管”或“光管阵列”)，所述光隔离阵列能够使光从一个位置(例如透镜)到另一个位置(例如光电探测器二极管(每个光电探测器二极管称为“PD”)的阵列)的传输效率和隔离度提高。光隔离阵列可以提供输入光的光学隔离，并且能够消除串扰，从而通过提高进入信号的对比度来提高分辨率。当在户外设备中使用时，光隔离阵列还能够保护PD免受污染。
隔离阵列