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[实用新型]磁体系统和溅射设备-CN202222806035.7有效
发明人： K·施耐德;G·格罗斯;T·桑德;R·豪斯瓦尔德 -专利权人：冯·阿登纳资产股份有限公司
申请日： 2022-10-24 - 公布日： 2023-06-27 - 主分类号： H01J37/34 文献下载
摘要：提供了一种磁体系统和溅射设备。根据各种实施方式，用于溅射设备的磁体系统可以包括：支承框架；磁体载体，其具有第一安装区域和第二安装区域；第一支撑设备，该第一支撑设备借助于第一安装区域安装在磁体载体处；第二支撑设备，该第二支撑设备借助于第二安装区域安装在磁体载体处，其中第一安装区域和/或第二安装区域设计成，使得可以改变第一支撑设备和第二支撑设备相对于彼此安装在磁体载体处的方位；其中第一支撑设备和第二支撑设备设计用于：与支承框架彼此接合，以形成用于支承磁体载体的支承设备。
磁体系统溅射设备

[发明专利]磁体系统、溅射设备和方法-CN202211330782.6在审
发明人： K·施耐德;G·格罗斯;T·桑德;R·豪斯瓦尔德 -专利权人：冯·阿登纳资产股份有限公司
申请日： 2022-10-27 - 公布日： 2023-05-16 - 主分类号： H01J37/34 文献下载
摘要：涉及一种磁体系统、溅射设备和方法。根据各种实施方式，用于溅射设备(300)的磁体系统(100)可以包括：壳体(406g)，该壳体具有壳体内部空间(406h)；磁体载体(102)，该磁体载体设置在壳体内部空间(406h)中并且借助于壳体(406g)支撑，优选地以相对于壳体位置固定的方式支撑；除湿设备，该除湿设备邻接于壳体内部空间(406h)或设置在壳体内部空间(406h)中，用于干燥壳体内部空间(406h)。
磁体系统溅射设备方法

[发明专利]磁体系统和溅射设备-CN202211307731.1在审
发明人： K·施耐德;G·格罗斯;T·桑德;R·豪斯瓦尔德 -专利权人：冯·阿登纳资产股份有限公司
申请日： 2022-10-24 - 公布日： 2023-05-16 - 主分类号： H01J37/34 文献下载
摘要：提供了一种磁体系统和溅射设备。根据各种实施方式，用于溅射设备(300)的磁体系统(100)可以包括：支承框架(414)；磁体载体(102)，其具有第一安装区域(1002a)和第二安装区域(1002b)；第一支撑设备(404)，该第一支撑设备借助于第一安装区域(1002a)安装在磁体载体(102)处；第二支撑设备(404)，该第二支撑设备借助于第二安装区域(1002b)安装在磁体载体(102)处，其中第一安装区域(1002a)和/或第二安装区域(1002b)设计成，使得可以改变第一支撑设备(404)和第二支撑设备(404)相对于彼此安装在磁体载体(102)处的方位；其中第一支撑设备(404)和第二支撑设备(404)设计用于：与支承框架(414)彼此接合，以形成用于支承磁体载体(102)的支承设备。
磁体系统溅射设备

[实用新型]用于溅射设备的磁体系统以及溅射设备-CN202222868210.5有效
发明人： K·施耐德;G·格罗斯;T·桑德;R·豪斯瓦尔德 -专利权人：冯·阿登纳资产股份有限公司
申请日： 2022-10-27 - 公布日： 2023-04-28 - 主分类号： H01J37/34 文献下载
摘要：涉及用于溅射设备的磁体系统，以及溅射设备。根据各种实施方式，用于溅射设备(300)的磁体系统(100)可以包括：壳体(406g)，该壳体具有壳体内部空间(406h)；磁体载体(102)，该磁体载体设置在壳体内部空间(406h)中并且借助于壳体(406g)支撑，优选地以相对于壳体位置固定的方式支撑；除湿设备，该除湿设备邻接于壳体内部空间(406h)或设置在壳体内部空间(406h)中，用于干燥壳体内部空间(406h)。
用于溅射设备磁体系统以及