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专利名称

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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]包括多平面光转换设备的用于处理光辐射的设备-CN201980057880.7有效
发明人： C·雅卡尔;G·拉布罗伊莱;O·皮内尔 -专利权人：盖拉布斯公司
申请日： 2019-07-24 - 公布日： 2023-05-05 - 主分类号： G02B6/35 文献下载
摘要：用于处理光辐射的设备(1)，包括：‑光学输入端(2)，其用于接收来自光源(3)的输入光束并且用于使输入辐射在设备(1)中传输；光学输出端(4)，其用于发射具有预定空间参数的输出光束；MPLC转换设备(5)，其布置在光学输入端(2)与光学输出端(4)之间，并且配置为在分离平面(7)中将输入辐射在空间上分离为有用辐射和干扰辐射，所述有用辐射为目标模式且传输到光学输出端(4)。处理设备还包括至少一个用于阻挡干扰辐射的设备(8)，阻挡设备布置于分离平面(7)，使得干扰辐射不会对输出光束作出贡献。
包括平面转换设备用于处理光辐射

[发明专利]多平面变换装置的设计方法、通过该方法获得的相位板和多平面变换装置-CN201980014723.8有效
发明人： O·皮内尔 -专利权人：盖拉布斯公司
申请日： 2019-02-26 - 公布日： 2022-09-30 - 主分类号： G02B6/24 文献下载
摘要：本发明涉及一种光辐射的多平面变换装置的设计方法，该装置实现拦截光辐射的多个M个相位掩模，以便对光辐射施加预定变换，从而对所述辐射进行相移。根据本发明，定义了具有可分离变量(x，y)的第一模式族和第二模式族(u，v)。通过分别从第一模式族和第二模式族中选择角标对为{i，j}k的模式，选定多个N个角标对{i，j}k以分别形成第一使用模式族和第二使用模式族。接下来，建立相移量φ1(x，y)，M个相位掩模可以将第一使用模式族的角标对为{i，j}k的每个模式变换为第二使用模式族的相同角标对{i，j}k的模式。本发明还涉及通过该设计方法获得的相位板和多平面变换装置。
平面变换装置设计方法通过获得相位

[发明专利]用于发光辐射的空间调控的光学器件的多通道腔-CN201880086890.9有效
发明人： C·雅卡尔;P·德比奥勒;B·德诺勒;G·拉布罗伊;O·皮内尔 -专利权人：盖拉布斯公司
申请日： 2018-12-19 - 公布日： 2022-09-30 - 主分类号： G02B26/06 文献下载
摘要：本发明涉及多通道腔(1)，其由平坦支撑台(2)、第一反射光学元件(3)和第二反射光学元件(3')的组件组成，第一反射光学元件(3)和第二反射光学元件(3')的每一个具有彼此相对布置的主表面(3a、3'a)，至少一个光学元件(3、3')的主表面(3a、3'a)是微结构化的，以改变入射发光辐射的相位，该入射发光辐射在每个光学元件(3、3')上被多次反射以形成变换后的辐射，多通道腔(1)的特征在于：多通道腔(1)精确地包括三个组装交界面。
用于发光辐射空间调控光学器件通道

[发明专利]包括承载至少一个二极管的至少一个半导体芯片的光源-CN202080045082.5在审
发明人： O·皮内尔 -专利权人：盖拉布斯公司
申请日： 2020-06-19 - 公布日： 2022-02-01 - 主分类号： H01S5/02251 文献下载
摘要：本发明涉及一种光源(3)，所述光源包括：‑至少一个半导体芯片(1)，所述至少一个半导体芯片能够发射入射辐射(I)；‑输出级(4)，所述输出级包括用于传播多个预定模式的至少一个光纤或自由空间；‑至少一个光学部件(5)，所述至少一个光学部件具有微结构化主表面，该微结构化主表面面对所述半导体芯片(1)布置，以便拦截所述入射辐射(I)，在空间上修改所述入射辐射(I)的相位，并且经由所述光学部件的多个反射和/或透射形成至少包括所述预定模式的变换光辐射。
包括承载至少一个二极管半导体芯片光源

[发明专利]合成多个光束的光学装置和使用该光学装置的系统-CN202080012455.9在审
发明人： O·皮内尔;G·拉布罗伊莱 -专利权人：盖拉布斯公司
申请日： 2020-02-04 - 公布日： 2021-09-10 - 主分类号： G02B27/10 文献下载
摘要：本发明涉及一种光学装置(1)，其用于通过合成共同形成入射光辐射的多个锁相输入光束(FLI)来形成具有至少一个目标模式的输出光束(FLS)。光学装置(1)包括设置在输入平面(PE)和输出平面(PS)之间的转换装置(DC)，转换装置(DC)配置为执行模式转换，模式转换旨在将主超模中存在的入射辐射的能量部分传递到目标模式，并且旨在将相干超模中存在的入射辐射的能量部分传递到变形模式。本发明还涉及一种用于产生输出光束(FLS)的系统，其包括这样的装置(1)。
合成光束光学装置使用系统

[发明专利]用于光调控的单块体腔-CN201880087998.X在审
发明人： G·拉布罗伊莱;B·德诺勒;O·皮内尔 -专利权人：盖拉布斯公司
申请日： 2018-12-17 - 公布日： 2020-09-11 - 主分类号： G02B26/06 文献下载
摘要：本发明涉及通过在由均质透明材料制成的单块体的至少两个反射表面上多次反射光辐射来调控所述光辐射的器件。该器件包括在块体表面上的第一区域和第二区域，以用于注入待调控的所述光辐射以及用于在调控之后提取所述光辐射。至少，反射表面中的一个是微结构化的，以进行确定的空间相位变换。
用于调控体腔

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