专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]通过过度抛光生产光波导中的垂直锥形体的方法-CN03816669.0有效
  • M·萨里布 - 英特尔公司
  • 2003-04-17 - 2005-09-14 - G02B6/30
  • 一种用于在平面波导中形成垂直波导锥形体的方法包括:提供基板(10);在基板上形成覆盖层(12);在覆盖层(12)上形成核心层(14)。在核心层(14)上形成具有开口的保护层(16B),该开口露出一部分核心层。使用化学机械抛光工艺从而,在暴露部分中形成凹坑,在核心层(14)中形成具有倾斜侧壁的凹坑(31)。在一个实施例中,随后,将核心层(14)形成图案,从而将一部分核心层除去到约凹坑的深度。该被除去的部分包括含凹坑的一部分核心层。最终的结构包括未被蚀刻的倾斜表面,它过度到基本平面的被蚀刻表面。再次使核心层形成图案并被蚀刻以形成波导,其中倾斜表面形成锥形体的一部分。
  • 通过过度抛光生产波导中的垂直锥形方法

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