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专利名称

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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]形成反色调图像的硬掩模方法-CN200980131798.0无效
发明人： D·J·阿卜杜拉;R·R·达莫尔;M·尼瑟 -专利权人： AZ电子材料美国公司
申请日： 2009-03-30 - 公布日： 2011-07-13 - 主分类号： G03F7/40 文献下载
摘要：本发明涉及在器件上形成反色调图像的方法，包括：a)在基底上形成吸收性底层；b)在所述底层上形成正性光致抗蚀剂的涂层；c)形成光致抗蚀剂图案；d)用硬化性化合物处理所述第一光致抗蚀剂图案，从而形成经硬化的光致抗蚀剂图案；e)在所述经硬化的光致抗蚀剂图案上由硅涂料组合物形成硅涂层；f)干蚀刻所述硅涂层以除去所述硅涂层直到所述硅涂层具有与所述光致抗蚀剂图案几乎相同的厚度；和g)干蚀刻以除去所述光致抗蚀剂和底层，从而在所述光致抗蚀剂图案的原始位置下方形成沟槽。本发明进一步涉及上述方法的产物和由使用上述方法制成的微电子器件。
形成色调图像硬掩模方法

[发明专利]抗反射涂层组合物-CN200980120871.4有效
发明人：姚晖蓉;林观阳;殷建;吴恒鹏;M·尼瑟;R·R·达莫尔 -专利权人： AZ电子材料美国公司
申请日： 2009-04-29 - 公布日： 2011-05-11 - 主分类号： C08G18/00 文献下载
摘要：本发明公开了抗反射涂层和有关的聚合物。
反射涂层组合

[发明专利]抗反射涂层组合物-CN200780047292.2有效
发明人： D·阿卜杜拉;F·霍利亨;M·尼瑟 -专利权人： AZ电子材料美国公司
申请日： 2007-12-19 - 公布日： 2009-12-16 - 主分类号： C08L101/00 文献下载
摘要：本发明披露了新的底部抗反射涂层组合物，其中得自该组合物的涂层具有可由蚀刻板温度调节的蚀刻速率。
反射涂层组合

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共 3 条

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