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[发明专利]用于在基材中开设凹部的方法-CN202180037651.6在审
发明人： N.安布罗修斯;R.奥斯托尔特;D.邓克;M.多格;K.黑尔;A.M.沃格特 -专利权人： LPKF激光电子股份公司
申请日： 2021-03-31 - 公布日： 2023-02-03 - 主分类号： B23K26/53 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于通过局部地降低材料厚度在基材(2)中开设作为凹处的凹部的方法。在此，通过激光射束的沿着射束轴线(4)的空间上的射束成型在基材(2)中产生改性部(5)，从而接着通过腐蚀性介质的作用产生凹部。为此沿着平行的射束轴线(4)将多个改性部(5)开设到基材(2)中，所述改性部在第一外表面(6)和基材(2)内的与对置于第一外表面(6)的第二外表面(7)间隔距离(a)的位置(P)之间具有延伸尺寸(T)。彼此相邻的改性部(5)以相应的射束轴线(4)为参照具有侧向距离(S)，该侧向距离设计为与基材(2)中的长度或者深度成反比，以便由此产生凹部的几乎平坦的表面。
用于基材开设方法

[发明专利]用于制造工程用掩膜的方法-CN201880016177.7有效
发明人： R.奥斯特霍尔特;N.安布罗修斯;A.施诺尔;D.邓克尔;K.黑尔;M.德尔格;S.温克 -专利权人： LPKF激光电子股份公司
申请日： 2018-03-05 - 公布日： 2022-06-14 - 主分类号： B23K26/402 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于由例如玻璃、蓝宝石或者硅材质的板形的衬底(2)制造工程用掩膜(1)的方法。掩膜(1)的至少一个开口借助激光诱导的深度刻蚀制成，其中，衬底(2)至少对于激光诱导的深度刻蚀时使用的激光波长是透明的。为此，衬底(2)为了尤其闭合的轮廓(3)的分离通过激光器的脉冲沿预先定义的加工线(4)被改变。连接梁形式的加工线(4)的局部的中断(即所谓的虚断线)保证了待分离的轮廓(3)甚至在用腐蚀溶液处理之后也还暂时与板形的衬底(2)连接。以这种方式被预处理的板形的衬底(2)在后续步骤中被用腐蚀溶液、例如氢氟酸(HF)或者氢氧化钾(KOH)处理，由此使得衬底(2)的未被改性的区域均匀地和各向同性地被腐蚀。改性区域相对于衬底(2)的未处理区域各向异性地反应，因此最初在处理过的位置形成定向凹空，直到衬底(2)的材料在所述位点最终完全溶解。
用于制造工程用掩膜方法