专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]先进纳米闪速存储器的动态编程技术-CN201810246242.7有效
  • H.V.特兰;A.利;T.伍;H.Q.阮 - 硅存储技术公司
  • 2014-01-14 - 2022-03-25 - G11C16/10
  • 本发明涉及先进纳米闪速存储器的动态编程技术,公开了一种用于对先进纳米闪速存储器单元编程的改进的方法和设备,其中一组镜像电流源(110、111、112、113)中的每个电流源经由多组开关(120‑123、130‑133、140‑143、150‑153)轮流连接到对应的一组位线(160、170、180、190)中的一根位线。所述改进的方法和设备向每根位线提供按时间平均的编程电流,并且减小了编程电流变化,所述编程电流变化归因于,例如,在制造形成所述镜像电流源(110‑113)的所述晶体管时的工艺变化。
  • 先进纳米存储器动态编程技术
  • [发明专利]虚拟接地非易失性存储器阵列-CN201580061556.4有效
  • H.V.陈;H.Q.阮;N.杜 - 硅存储技术公司
  • 2015-11-10 - 2021-08-27 - H01L27/11521
  • 一种存储器装置具有存储器单元对,该存储器单元对均具有单个连续沟道区、沟道区的第一部分和第二部分上方的第一浮栅和第二浮栅、沟道区的介于沟道区的第一部分和第二部分之间的第三部分上方的擦除栅以及在第一浮栅和第二浮栅上方的第一控制栅和第二控制栅。对于存储器单元对中的每一者,第一区电连接到同一有源区中的相邻存储器单元对的第二区,并且第二区电连接到同一有源区中的相邻存储器单元对的第一区。
  • 虚拟接地非易失性存储器阵列
  • [发明专利]使用互补电压电源的分裂栅闪存系统-CN201580074175.X有效
  • H.V.陈;A.刘;T.于;H.Q.阮 - 硅存储技术公司
  • 2015-12-04 - 2021-05-18 - G11C5/14
  • 本发明公开了一种包括第一导电类型的半导体衬底的非易失性存储器装置。非易失性存储器单元阵列位于所述半导体衬底中并按多个行和列布置。每个存储器单元包括位于所述半导体衬底的表面上的第二导电类型的第一区,以及位于所述半导体衬底的所述表面上的所述第二导电类型的第二区。沟道区位于所述第一区和所述第二区之间。字线覆盖在沟道区的第一部分上面并与所述沟道区的第一部分绝缘,并且与第一区相邻且与第一区几乎不或完全不重叠。浮栅覆盖在沟道区的第二部分上面,与第一部分相邻,并与沟道区的第二部分绝缘且与第二区相邻。耦合栅覆盖在浮栅上面。位线连接至第一区。在编程、读取或擦除操作期间,可将负电压施加至选择的或未选择的存储器单元的所述字线和/或所述耦合栅。
  • 使用互补电压电源分裂闪存系统
  • [发明专利]非易失性分裂栅存储器装置及其操作方法-CN201580053591.1有效
  • H.V.陈;H.Q.阮;N.杜 - 硅存储技术公司
  • 2015-09-14 - 2021-03-30 - G11C16/04
  • 本发明公开了一种具有第一导电类型的半导体衬底的非易失性存储器装置。非易失性存储器单元的阵列在所述半导体衬底中以多个行和列布置。每个存储器单元包括位于所述半导体衬底表面上的第二导电类型的第一区,以及位于所述半导体衬底表面上的所述第二导电类型的第二区。沟道区位于所述第一区和所述第二区之间。字线覆盖在所述沟道区的第一部分上面并与其绝缘,并且与所述第一区相邻且几乎不与或完全不与所述第一区重叠。浮栅覆盖在沟道区的第二部分上面,与第一部分相邻并与其绝缘,且与第二区相邻。耦合栅覆盖在浮栅上面。位线连接至第一区。负电荷泵电路生成第一负电压。控制电路接收命令信号并响应于此生成多个控制信号,随后将第一负电压施加至未选择存储器单元的字线。在编程、读取或擦除操作期间,可将负电压施加至所述未选择存储器单元的所述字线。
  • 非易失性分裂存储器装置及其操作方法

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