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[发明专利]直列式涂覆设备-CN201080060604.5有效
发明人： J·迈;赫尔曼·施勒姆;T·格罗斯;D·德科尔;M·格利姆 -专利权人：德国罗特·劳股份有限公司
申请日： 2010-12-20 - 公布日： 2012-10-10 - 主分类号： C23C16/517 文献下载
摘要：本发明涉及一种直列式涂覆设备，该直列式涂覆设备包括至少一个加工室，该加工室具有在基底穿过该加工室的输送方向依次安排的至少两个等离子体源。本发明的目的是提供这样一种直列式等离子涂覆设备，这种设备能够进行高质量的多层式层和/或梯度层的连续、大表面的、并且有效的沉积。为此，提供了这样一种直列式等离子体涂覆设备，其中该至少两个等离子体源是在不同激发频率下工作的不同等离子体源。
直列式涂覆设备

[发明专利]用于沉积多层式层和/或梯度层的方法-CN201080060609.8有效
发明人： J·迈;赫尔曼·施勒姆;T·格罗斯;D·德科尔;M·格利姆;H-P·斯皮尔里切 -专利权人：德国罗特·劳股份有限公司
申请日： 2010-12-20 - 公布日： 2012-09-19 - 主分类号： C23C14/54 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于在直列式等离子体涂覆设备中借助等离子体辅助的化学气相沉积将多层式层和/或梯度层沉积到至少一个基底上的方法，该直列式等离子体涂覆设备包括至少一个加工室，其中在基底的输送方向上依次安排了至少两个单独的等离子体源。本发明的目的是提供这样一种方法，通过该方法可以在单一的加工室中在至少一个基底上、在该基底输送穿过该加工室的过程中生产出多个处于层堆叠形式的不同层或者一个具有根据其厚度而变的特性的层。为此，根据这样一种方法，该至少两个等离子体源是以在不同的过程条件下以10kHz与2.45GHz之间的激发频率来工作的，这至少两个等离子体源中的至少一个是脉冲式的，并且该基底被连续地输送穿过这些单独的等离子体源的涂覆区域，至少一个限定的双层堆叠包括多个具有不同特性的单独层和/或沉积在该基底上的至少一个限定的梯度层。
用于沉积多层梯度方法