专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]钴铬薄膜中具有高硼或高碳添加剂的多层垂直介质-CN03806851.6有效
  • Q·陈;C·布鲁克;R·Y·兰简 - 西加特技术有限责任公司
  • 2003-03-28 - 2005-07-20 - G11B5/64
  • 将碳或硼添加到多层垂直磁介质结构的钴铬层中可以减少介质噪音。这种垂直磁介质结构在Co合金层和Pd或Pt层之间拥有明显的分界面并且明显减少结合交换。根据本发明的一个具体实施例,添加有碳或硼的垂直磁介质结构具体为:700FeCo30.8B12/20TaOx/700FeCo30.8B12/20TaOx/700FeCo30.8B12/20TaOx/158FeCo30.8B12/17Ta/49ITO/33CoCr37Ru10/2.5COy/2.5C/[(CoCr9)C6.8/Pd]19/50CHN。[(CoCr9)C6.8/Pd]19表示19个双层(CoCr9)C6.8/Pd的叠层结构。TaOx表示表面经过氧化处理的钽。COy表示碳的氧化物。ITO表示铟锡氧化物,分别由80%克分子的In2O3和20%克分子的Sn2O5组成。CHN表示经过氢化氮化处理过的碳。
  • 薄膜具有添加剂多层垂直介质

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