专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]形成光刻图案的方法-CN201110108960.6有效
  • 姜锡昊;C·科尔特 - 罗门哈斯电子材料有限公司
  • 2011-03-07 - 2012-02-01 - G03F7/00
  • 本发明涉及一种形成光刻图案的方法。还提供涂覆的基板和通过该方法形成的电子器件。该方法在电子器件的制造中具有特殊用途。提供了一种形成光刻图案的方法,所述方法包括:(a)提供在其表面上具有一个或多个将被图案化的层的基板;(b)在该一个或多个将被图案化的层上施加光致抗蚀剂组合物层,该光致抗蚀剂组合物包括具有酸解离基团的树脂和光酸产生剂;(c)在光化辐射下图案化曝光该光致抗蚀剂组合物层;并且(d)在光致抗蚀剂组合物层上施加显影剂,其中光致抗蚀剂组合物层中的未曝光区域被显影剂去除,在一个或多个将被图案化的层上形成光致抗蚀剂图案,其中该显影剂包括2-庚酮和/或5-甲基-2-己酮。
  • 形成光刻图案方法

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