专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果9个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [发明专利]衬底载运器-CN201780016298.7有效
  • M·L·约翰逊;G·M·加拉格尔;B·格雷格森 - 恩特格里斯公司
  • 2017-02-09 - 2023-07-18 - H01L21/673
  • 本发明公开一种衬底容器(100),其包含基底(105)及盖(115)。盖(115)配合基底(105)以界定封闭空间。互锁托架(405)的堆叠可安置于基底(105)内。每一互锁托架(405)包含嵌入凸缘(410),其界定用于支撑衬底的配准面(420)。互锁托架(405)还包含凸肩部分(415)。离隙特征(435)界定于凸肩部分(415)与配准面(420)之间的接合点。离隙特征(435)可防止衬底的尖锐边缘接触凸肩部分(415),借此减少颗粒产生。
  • 衬底载运
  • [发明专利]带均压的衬底容器-CN200680014024.6无效
  • B·格雷格森;D·哈伯梅尔;S·森纳;B·怀斯曼;A·M·蒂本;J·斯特里克 - 安堤格里斯公司
  • 2006-02-27 - 2008-04-23 - B65G1/133
  • 本发明是一种用于容纳对微粒敏感的衬底的盒,用于在所述盒的外部与内部环境之间提供均压并用于使靠近所述对微粒敏感的衬底的内部气态流体流最小化。所述盒包含主盒、以及位于封盖中的隔膜,所述隔膜具有正常的未挠曲位置,所述隔膜可相对于所述正常的未挠曲位置发生挠曲。较佳地,所述盒包含设置于所述主盒中的辅助盒,以界定用于容纳所述对微粒敏感的衬底的第二外壳。所述盒可包含过滤器,所述过滤器附装至所述盒并在所述盒的外部与所述盒的内部之间提供气态流体连通。所述隔膜可响应于快速的压力变化,而所述过滤器可响应于较慢的压力变化并使所述隔膜能够返回至其正常的未挠曲位置。
  • 带均压衬底容器
  • [发明专利]晶片容器的缓冲系统-CN03804458.7有效
  • G·博雷斯;M·扎布卡;B·格雷格森 - 诚实公司
  • 2003-02-21 - 2005-07-13 - B65D85/00
  • 一种晶片容器,其包括具有供晶片装入和取出的敞开前部(24)的容器部分(20),包括带有缓冲系统(140,142)的门(100),该缓冲系统利用独特的晶片限制系统(114)和结构特征来为晶片提供最大的保护,并可防止所述晶片旋转。门(100)的一个特征是,门盖板的前部具有一对锁定凹腔,它们位于门(100)的朝外侧面上。锁定凹腔容纳有二个带有锁定件(130)的锁定机构(122,124),锁定件伸出到门(100)的上、下边缘之外。锁定机构(122,124)被一对门面板(118,120)所覆盖,门面板具有钩子(186),其与门(100)的周边相连,并且还与垂直方向上的中部附近的柱子相连。
  • 晶片容器缓冲系统

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top