专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]安全装置及制造用于安全装置的图像图案的方法-CN201780039542.1有效
  • A·李斯特 - 德拉鲁国际有限公司
  • 2017-04-19 - 2021-06-04 - B42D25/445
  • 公开了一种制造用于安全装置的图像图案的方法。所述方法包括:提供一个金属化的衬底,所述金属化的衬底包括一种衬底材料,在所述衬底材料的第一表面上具有第一金属层,所述第一金属层在第一蚀刻剂物质中可溶;将第一光敏抗蚀剂层施加到所述第一金属层,所述第一光敏抗蚀剂层包括可热活化的交联剂,所述交联剂可操作以优先使选定类的官能团交联,在施加到所述第一金属层时所述官能团不存在于所述第一光敏抗蚀剂层中。通过一个图案化的掩膜使所述第一光敏抗蚀剂层暴露于一个波长的辐射,所述抗蚀剂层响应于该波长的辐射,其中所述图案化的掩膜包括第一图案元件和第二图案元件,在所述第一图案元件中,所述掩膜对所述辐射是基本上不透明的,在所述第二图案元件中,所述掩膜对所述辐射是基本上透明的,于是所述第一光敏抗蚀剂层的暴露的第二图案元件反应,导致在第二蚀刻剂物质中的可溶性增加,且未暴露的第一图案元件保持对于所述第二蚀刻剂物质相对不可溶。使所述第一光敏蚀刻剂层暴露于第一反应物物质,所述第一反应物物质与所述第一光敏抗蚀剂层的暴露的第二图案元件反应,以产生至少一个所述选定类的官能团,所述第一反应物物质基本上不与所述第一光敏抗蚀剂层的未暴露的第一图案元件反应。使所述第一光敏抗蚀剂层中的交联剂活化,使得在暴露的第二图案元件中的至少一个所述选定类的官能团之间形成交联,由此所述第一光敏抗蚀剂层的暴露的第二图案元件在所述第二蚀刻剂物质中的可溶性降低。使所述第一光敏抗蚀剂层的第一图案元件和第二图案元件暴露于一个波长的辐射,所述抗蚀剂层响应于该波长的辐射,于是所述第一光敏抗蚀剂层的新暴露的第一图案元件反应,导致对所述第二蚀刻剂物质的可溶性增加,所述第二图案元件保持对于所述第二蚀刻剂物质相对不可溶。将所述第一蚀刻剂物质和所述第二蚀刻剂物质施加到所述衬底,于是所述第一抗蚀剂层的第一图案元件和所述第一金属层的第一图案元件都被溶解,所述第一金属层的剩余的第二图案元件形成一个图像图案。
  • 安全装置制造用于图像图案方法
  • [发明专利]安全设备-CN201380046345.4有效
  • R·怀特曼;A·史密斯;A·李斯特 - 德拉鲁国际有限公司
  • 2013-07-05 - 2019-05-03 - B44F1/10
  • 提供了一种安全设备,包括第一元件图案(P1)和交叠的第二元件图案(P2),该第一元件图案和该第二元件图案被一个透明层(1)间隔开,该第一和第二图案(P1,P2)共同地在取决于查看位置而变化的程度上阻挡穿过该设备透射到查看者的光的通路。该第一和第二元件图案(P1,P2)被配置成使得,当该设备绕第一倾斜轴线相对于该查看者倾斜时,该设备的第一区域在阻挡程度方面表现出最大改变,且当该设备绕不平行于该第一倾斜轴线的第二倾斜轴线相对于该查看者倾斜时,该设备的第二区域在阻挡程度方面表现出最大改变。
  • 安全设备
  • [发明专利]制造用于安全装置的图像图案的方法-CN201780051397.9在审
  • A·李斯特 - 德拉鲁国际有限公司
  • 2017-05-17 - 2019-04-16 - B42D25/44
  • 公开了一种制造用于安全装置的图像图案的方法。所述方法包括:(a)提供一个金属化的衬底,所述金属化的衬底包括一种衬底材料,在所述衬底材料的第一表面上具有第一金属层,所述第一金属层在第一蚀刻剂物质中可溶;(b)将第一抗蚀剂层施加到所述第一金属层,所述第一抗蚀剂层包括一种抗蚀剂材料;(c)使所述第一抗蚀剂层与一个浮雕结构接触,所述浮雕结构包括一个支撑件,在所述支撑件上承载一个或多个突出部,所述一个或多个突出部各自远离所述支撑件延伸到一个远侧尖端,于是所述突出部中的至少一个延伸到所述第一抗蚀剂层中;(d)当所述第一抗蚀剂层和所述浮雕结构接触时,控制所述金属化的衬底和/或所述浮雕结构,以实现所述金属化的衬底和至少所述突出部中的至少一个突出部的尖端之间沿着一个移动方向的相对移动,使得延伸到所述第一抗蚀剂层中的所述突出部中的至少一个突出部将所述抗蚀剂材料的对应的至少一部分从所述金属化的衬底的对应的至少一个区域排出;(e)使所述第一抗蚀剂层与所述浮雕结构分离,使得从所述第一抗蚀剂层移除所述突出部中的至少一个突出部,留下位于所述至少一个区域外部保留在所述金属化的衬底上的抗蚀剂材料,从而形成具有存在所述抗蚀剂材料的一个或多个第一图案元件以及对应于所述至少一个区域且基本上不存在所述抗蚀剂材料的一个或多个第二图案元件的图案;以及(f)将所述第一蚀刻剂物质施加到所述金属化的衬底,于是所述第一金属层的第二图案元件被溶解,所述第一金属层的保留的第一图案元件形成一个图像图案。
  • 抗蚀剂层突出部金属化衬底第一金属层抗蚀剂材料浮雕结构图案元件图像图案支撑件蚀刻剂物质安全装置衬底材料延伸施加第一表面区域外部相对移动移动方向保留可溶排出移除溶解制造承载图案
  • [发明专利]安全装置及其制造方法-CN201680046151.8在审
  • A·李斯特;B·W·霍姆斯 - 德拉鲁国际有限公司
  • 2016-06-09 - 2018-04-17 - B42D25/445
  • 公开了一种制造用于安全装置的图像元件阵列的方法。该方法包括(a)提供包括衬底的金属化的衬底卷材,衬底在衬底的第一表面上具有第一金属层,第一金属层在第一蚀刻剂物质中可溶;(b)将第一光敏抗蚀剂层施加到第一金属层;(c)通过沿着运送路径传送衬底卷材、经由图案化的掩膜将第一光敏抗蚀剂层暴露至一波长的辐射,抗蚀剂层对该辐射响应,且在暴露期间,以与衬底卷材大体上相同的速度、沿着运送路径的至少一部分移动位于衬底卷材旁边的图案化的掩膜,使得掩膜和衬底卷材之间大体上没有相对移动,其中图案化的掩膜包括对辐射是大体上不透明的第一图案元件和对辐射是大体上透明的第二图案元件,其中当第一光敏抗蚀剂层的暴露的第二图案元件反应时,导致被第二蚀刻剂物质溶解的可溶性增加,且未暴露的第一图案元件保持被第二蚀刻剂物质相对不可溶;以及(d)将第一蚀刻剂物质和第二蚀刻剂物质施加到衬底卷材,其中当第一抗蚀剂层的第二图案元件和第一金属层的第二图案元件都被溶解时,第一金属层的剩余的第一图案元件形成图像元件阵列。
  • 安全装置及其制造方法

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