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[发明专利]一种用于给CMP工艺供应稳定SLURRY研磨液的装置-CN202210477685.3在审
发明人： 黄慧露;吴汉涛;周懂懂 -专利权人：无锡恒大电子科技有限公司
申请日： 2022-04-29 - 公布日： 2022-08-05 - 主分类号： B24B57/02 文献下载
摘要：Slurry(CMP研磨液)是晶圆表面平坦化工艺中的研磨材料和化学添加剂的混合物，Slurry主要是由研磨剂(Abrasive)、表面活性剂、PH缓冲胶、氧化剂和防腐剂等成分组成。Slurry是CMP工艺的关键要素之一，其性能直接影响晶圆抛光后表面的质量。本发明是一种用于给CMP工艺机台端供应稳定SLURRY研磨液的装置，为整个工艺过程提供流量稳定，温度，电导率，不间断的Slurry研磨液，保证整个工艺过程的稳定性。设备包括一个精抛液储液桶，一个粗抛液储液桶，两个气动隔膜泵，两个过滤器，两个冷凝器，一个加热器，一个温度传感器，一个电导率传感器，一桶KHO液体，一台PLC可编程控制器，一台HMI人机界面触摸屏，若干电磁气动阀和压力传感器组成。储液桶分为精抛液桶和粗抛液桶，分别为CMP工艺在不同需求下提供Slurry液体，储液桶下方管道与隔膜泵相连，泵提供压力将液体送至CMP工艺机台端，精抛液供应无回收，粗抛液循环回收，粗抛液循环与回收时，过滤器将管道中的Slurry液体过滤后回收至储液桶。
一种用于 cmp 工艺供应稳定 slurry 研磨装置

[发明专利]谷糙分离筛及其控制方法、控制装置、谷糙分离机-CN202010656167.9有效
发明人：曹梅丽;邱杏军;张朝富;周劲;黄慧露;宋少云 -专利权人：武汉轻工大学
申请日： 2020-07-08 - 公布日： 2021-12-17 - 主分类号： B02B7/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种谷糙分离筛及其控制方法、控制装置及谷糙分离机。所述谷糙分离筛包括用以调节分离板位置的调节装置，所述谷糙分离筛的控制方法包括如下步骤：在所述谷糙分离筛开启工作后，获取所述谷糙分离筛上的谷糙分离线的位置参数；根据分离板的位置参数和谷糙分离线的位置参数之间的关系，控制所述调节装置工作，以控制所述分离板的位置。本发明可实时调节所述分离板的位置，以改善所述谷糙分离筛的分离效果，自动化程度高，分离质量更好。
分离及其控制方法装置

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