专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]能够测量单根汗腺出汗速率和标志物浓度的可穿戴贴片-CN202310752050.4在审
  • 牛鹏飞;魏唯 - 天津大学
  • 2023-06-25 - 2023-10-13 - A61B5/145
  • 本发明公开了一种能够测量单根汗腺出汗速率和标志物浓度的可穿戴贴片,在可穿戴贴片上设置有多个相互独立的汗液采集检测通道单元,每个汗液采集检测通道单元包括一个汗液收集腔和一个与其连通的汗液流通微通道,在汗液流通微通道中设置出汗速率传感器和标志物浓度传感器。本发明的可穿戴贴片上的汗液收集腔的数量及汗液收集腔的底部开口面积是根据待检测的目标皮肤区域内的汗腺密度并基于泊松分布的分布律来设计的,据此设计的可穿戴贴片,当可穿戴贴片贴在目标皮肤区域时,能够有效的保证可穿戴贴片上存在仅含单根汗腺的汗液收集腔,从而实现能够测量单根汗腺出汗速率和标志物浓度。
  • 能够测量汗腺出汗速率标志浓度穿戴
  • [发明专利]一种汞源炉及其补充汞液的方法-CN202211137323.6有效
  • 龚欣;陈峰武;魏唯;陈长平;肖慧;宁澍 - 中国电子科技集团公司第四十八研究所
  • 2022-09-19 - 2023-09-05 - C30B29/48
  • 本发明公开了一种汞源炉,包括位于真空腔室外部的料罐、阀控组件、输送管道、以及位于真空腔室内部的喷射管,所述料罐、所述输送管道和所述喷射管依次连通,所述料罐上设有真空阀、注液阀和排液阀,所述阀控组件设于所述输送管道上,阀控组件包括并联的截止阀和计量阀,所述截止阀的流导大于所述计量阀的流导。本发明用较小流导的计量阀来控制汞流量,减小阀门开关对料罐内汞蒸气压力的影响,束流稳定性好,控制精度高,响应速度快;用较大流导的截止阀来快速抽真空,借助真空腔室的泵组来获得高真空状态,不需要配置额外的汞液补充装置,结构简单,有效,可以在不破坏生长腔室真空环境的情况下实现快速汞液补充。
  • 一种汞源炉及其补充方法
  • [实用新型]孕鼠腹腔注射装置-CN202222212829.0有效
  • 张域开;查定军;邱建华;宋勇莉;邱阳;陈二方;米文娟;陆菲;魏唯;耿盼玲 - 中国人民解放军空军军医大学
  • 2022-08-22 - 2023-05-23 - A61D7/00
  • 本实用新型公开了孕鼠腹腔注射装置,包括:外壳,外壳的底端中部开设有与其内腔相连通的注射孔,外壳的外壁顶部开设有螺纹;第一挡板,第一挡板设置于外壳的外壁底部,第一挡板位于螺纹的下方;限位板,限位板设置于外壳的顶端,限位板的顶端左右两侧均开设有上下贯穿的限位孔;旋转环,旋转环螺接于螺纹的外壁底端;旋转盘,旋转盘的底端通过轴承可转动的设置于旋转环的顶端,旋转盘可滑动的套接于外壳的外壁。本装置在进行使用时,可以根据实际情况调节针头漏出的长度,进而可以准确的确定针头刺入孕鼠腹腔中的深度,防止损伤到胎鼠及孕鼠的脏器,便于使用。
  • 腹腔注射装置
  • [实用新型]一种tip枪头快速插入装置-CN202222349111.6有效
  • 宋勇莉;查定军;张域开;米文娟;魏唯 - 中国人民解放军空军军医大学
  • 2022-09-02 - 2023-03-24 - H01R13/627
  • 本实用新型公开了一种tip枪头快速插入装置,包括:底座;存放筐,存放筐设置于底座的右侧中部;滑轨,滑轨的数量为两个,两个滑轨分别设置于底座的内腔底端前后两侧;驱动机构,驱动机构设置于底座的内腔底端;整理架,整理架的底端前后两侧均沿左右方向开设有左右贯穿的滑动槽,滑轨的外壁中部能够滑动的相适配插接于滑动槽的内腔,整理架的底端沿前后方向开设有第一滑槽,整理架的顶端沿前后方向由左至右等距的开设有若干整理槽。本装置可以快速的整理tip枪头,并且可以快速的将tip枪头插入至tip枪头盒的内腔中,较人工插入的方式,可以极大程度上提升工作效率,并且降低工作人员的劳动强度,便于使用。
  • 一种tip快速插入装置
  • [发明专利]一种谷物饲料除杂装置-CN202211636162.5有效
  • 刘英杰;张清锋;张月娥;李建西;杜晶晶;陈晓君;赵娜;刘潇潇;柴丹丹;魏唯;孟园园;吴显超 - 河南双优饲料有限公司
  • 2022-12-20 - 2023-03-10 - B07B15/00
  • 本发明涉及除杂领域,具体涉及一种谷物饲料除杂装置。其包括机架,机架上设置有壳体,壳体内部设置有第一清理机构和第二清理机构,第一清理机构用于对物料中的纤维杂质进行清除,第二清理机构位于第一清理机构的下方,第二清理机构用于对物料中的铁质杂质进行清除;第二清理机构的下方设置有第三清理机构,第三清理机构包括转筒和第一引风管,第三清理机构用于对物料中的石块类杂质进行清除。本发明通过设置第一清理机构、第二清理机构以及第三清理机构,能够对物料中不同种类的杂质进行清除,同时第三清理机构采用转筒和风力的配合,振动小,噪音低,且装置结构紧凑合理,占地面积小,实用性高。
  • 一种谷物饲料装置
  • [发明专利]一种板式PECVD设备-CN202011025958.8有效
  • 龚俊;魏唯;周立平 - 中国电子科技集团公司第四十八研究所
  • 2020-09-25 - 2023-01-31 - C23C16/509
  • 本发明公开了一种板式PECVD设备,包括反应腔体,所述反应腔体内设有加热盘,所述加热盘上设有屏蔽环,加热盘外周设有下整流罩,所述下整流罩上方设有可升降的上整流罩,所述上整流罩内侧设有上电极、匀气块、以及位于上电极与匀气块之间的调节垫环,所述上电极和匀气块之间形成缓冲腔,所述匀气块上设有进气通道,所述上电极上均匀设置有多个出气通道,上电极通过所述匀气块与射频匹配器导通。本发明具有能够实现较低功率辉光放电,降低带电粒子对薄膜损伤等优点。
  • 一种板式pecvd设备
  • [发明专利]一种分子束外延源料原位预处理方法-CN202011311933.4有效
  • 杜鹏;龚欣;魏唯;陈峰武;王慧勇;肖慧;宁澍;陈长平 - 湖南烁科晶磊半导体科技有限公司
  • 2020-11-20 - 2022-08-26 - C23C14/24
  • 本发明公开了一种分子束外延源料原位预处理方法,包括步骤:S1、坩埚下降至外筒内,关闭闸阀,外筒充气至大气压后卸下外筒,取下坩埚,将源料装入坩埚并盖上坩埚盖,将坩埚放回至坩埚托架上,将外筒重新连接至闸阀,外筒抽气至合适真空度后,打开闸阀,坩埚移动至工艺位置;S2、加热器对坩埚下部进行加热;S3、加热器对坩埚上部进行加热;S4、坩埚下降至外筒内,关闭闸阀,外筒充气至大气压后卸下外筒,取下坩埚盖,将外筒重新连接至闸阀,外筒抽气至合适真空度后,打开闸阀,坩埚移动至工艺位置。本发明具有操作简便、效率高,预处理后的料锭质地紧密,与坩埚形状相同,可显著提高蒸发束流的稳定性等优点。
  • 一种分子外延原位预处理方法

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