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[发明专利]防反射膜、透镜以及摄像装置-CN201580052923.4有效
发明人：高桥裕树;饭田毅 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2015-09-07 - 公布日： 2018-12-14 - 主分类号： G02B1/115 文献下载
摘要：本发明提供一种粘附性优异的防反射膜、透镜以及摄像装置。对光学基材的表面成膜碳氢膜，作为以高折射率层发挥功能的第1层。在第1层上成膜折射率低于第1层的折射率的MgF₂膜，作为以低折射率层发挥功能的第2层。通过相同的方法形成包括碳氢膜的第3层、包括MgF₂膜的第4层。利用RF磁控溅射装置成膜碳氢膜以及MgF₂膜。在成膜碳氢膜时，将氩和氢的混合气体供给至真空槽，将膜中的一部分C‑C键取代为C‑H键。通过氢化而切断一部分C‑C键，从而能够释放通过C‑C键积存的应变即应力。可以获得粘附性优异并且无膜破坏的防反射膜。
反射透镜以及摄像装置

[发明专利]防反射膜、硫属化合物玻璃透镜以及摄像装置-CN201580052924.9有效
发明人：高桥裕树;饭田毅 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2015-09-07 - 公布日： 2018-11-06 - 主分类号： G02B1/115 文献下载
摘要：本发明提供一种耐磨性优异的防反射膜、透镜以及摄像装置。在光学基材的表面成膜碳氢膜，作为以高折射率层发挥功能的第1层。在第1层上成膜折射率低于第1层的折射率的MgF₂膜，作为以低折射率层发挥功能的第2层。通过相同的方法形成包括碳氢膜的第3层、包括MgF₂膜的第4层、包括碳氢膜的第5层。利用RF磁控溅射装置成膜碳氢膜以及MgF₂膜。在成膜碳氢膜时，将氩和氢的混合气体供给至真空槽，将膜中的一部分C‑C键取代为C‑H键。通过C‑H键获得耐磨性以及粘附性优异的低折射率的防反射膜。
反射透镜以及摄像装置