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[实用新型]去除石墨件碳化硅沉积层的设备-CN202320293299.9有效
发明人：沈棽;江宏富;张春伟;林波;耿庆智;钟倩鸣;齐兰兰 -专利权人：江苏鑫华半导体科技股份有限公司
申请日： 2023-02-22 - 公布日： 2023-07-18 - 主分类号： B28D1/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了去除石墨件碳化硅沉积层的设备，该设备包括设备本体、切割组件、控制组件、风机过滤机组、真空除尘装置和激光传感器，所述设备本体包括自上而下的第一腔体和第二腔体，所述第一腔体和所述第二腔体之间设有镂空操作台，所述第一腔体上设有进风口，所述镂空操作台上设有可拆卸的夹持工装；所述切割组件可移动地设在所述第一腔体的顶部；所述控制组件与所述切割组件连接；所述风机过滤机组设在所述设备本体上且与所述进风口连通；所述真空除尘装置设在所述第二腔体内。采用该设备可以有效去除石墨件碳化硅沉积层，并确保石墨件碳化硅涂层的完整性，进而减少因石墨件裸露在高温反应腔室中释放颗粒而产生的外延层缺陷。
去除石墨碳化硅沉积设备

[发明专利]去除石墨件碳化硅沉积层的设备及方法-CN202310176790.8在审
发明人：沈棽;江宏富;张春伟;林波;耿庆智;钟倩鸣;齐兰兰 -专利权人：江苏鑫华半导体科技股份有限公司
申请日： 2023-02-22 - 公布日： 2023-05-16 - 主分类号： C30B25/02 文献下载
摘要：本发明公开了去除石墨件碳化硅沉积层的设备及方法，该设备包括设备本体、切割组件、控制组件、风机过滤机组和真空除尘装置，所述设备本体包括自上而下的第一腔体和第二腔体，所述第一腔体和所述第二腔体之间设有镂空操作台，所述第一腔体上设有进风口，所述镂空操作台上设有可拆卸的夹持工装；所述切割组件可移动地设在所述第一腔体的顶部；所述控制组件与所述切割组件连接；所述风机过滤机组设在所述设备本体上且与所述进风口连通；所述真空除尘装置设在所述第二腔体内。采用该设备可以有效去除石墨件碳化硅沉积层，并确保石墨件碳化硅涂层的完整性，进而减少因石墨件裸露在高温反应腔室中释放颗粒而产生的外延层缺陷。
去除石墨碳化硅沉积设备方法