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[发明专利]反射型空间光调制器、光观察装置及光照射装置-CN201780097494.1有效
发明人：泷泽国治;田中博;丰田晴义;大林宁;酒井宽人;渡边翼 -专利权人：浜松光子学株式会社
申请日： 2017-12-05 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： G02F1/015 文献下载
摘要：本发明提供一种反射型空间光调制器，其具备：电光结晶，其具有输入光被输入的输入面和与输入面相对的背面；光输入输出部，其配置于电光结晶的输入面，且具有透射输入光的第一电极；光反射部，其包含包括多个第二电极的基板，且配置于电光结晶的背面侧；驱动电路，其对第一电极与多个第二电极之间施加电场，光输入输出部包含形成于输入面上的第一电荷注入抑制层，光反射部包含形成于背面上的第二电荷注入抑制层。
反射空间调制器观察装置照射

[发明专利]反射型空间光调制器、光观察装置及光照射装置-CN201780097492.2有效
发明人：泷泽国治;田中博;丰田晴义;大林宁;酒井宽人;渡边翼 -专利权人：浜松光子学株式会社
申请日： 2017-12-05 - 公布日： 2023-06-09 - 主分类号： G02F1/015 文献下载
摘要：本发明提供一种反射型空间光调制器，其具备：电光结晶，其具有输入光被输入的输入面和与输入面相对的背面；光输入输出部，其配置于电光结晶的输入面，且具有透射输入光的第一电极；光反射部，其包含配置有多个第二电极的基板及将基板固定于背面的粘接层，并配置于电光结晶的背面；驱动电路，其对第一电极与多个第二电极之间施加电场，基板包含配置有多个第二电极的像素区域和包围像素区域的周边区域，粘接层具有与像素区域面对面的第一区域和包围第一区域的第二区域，粘接层在非导电性的粘接材料的固化物中具有电介质材料，第二区域中的电介质材料的含有率比第一区域中的电介质材料的含有率小。
反射空间调制器观察装置照射

[发明专利]光学装置-CN202180059483.0在审
发明人：渡边翼;酒井宽人;大林宁 -专利权人：浜松光子学株式会社
申请日： 2021-06-16 - 公布日： 2023-05-23 - 主分类号： G02B5/26 文献下载
摘要：本公开提供了一种光学装置(1)，具有：光学系统(3)，输出平行光，以及角度滤波器(6)，配置在从光学系统(3)输出的平行光的光路上。角度滤波器(6)包括具有第一折射率n1的电介质层和具有小于第一折射率n1的第二折射率n2的电介质层交替层叠的电介质多层膜。由此，实现具有角度滤波器的光学装置，该角度滤波器能够从在空间传播的光中选择性地提取所期望的角度成分，去除其他的角度成分。
光学装置

[发明专利]反射型空间光调制器、光观察装置和光照射装置-CN201780034920.7有效
发明人：泷泽国治;田中博;丰田晴义;大林宁;酒井宽人 -专利权人：浜松光子学株式会社
申请日： 2017-06-05 - 公布日： 2022-01-07 - 主分类号： G02F1/03 文献下载
摘要：反射型空间光调制器包括：相对介电常数为1000以上的钙钛矿型的电光晶体；光输入输出部，其具有配置于电光晶体的输入面且透过输入光的第一电极；光反射部，其具有配置于电光晶体的背面的多个第二电极，将输入光向光输入输出部反射；驱动电路，其具有与光反射部的多个第二电极分别对应的多个驱动电极，向多个驱动电极分别输入电信号而向第一电极与第二电极之间施加电场；和电极连接部，其具有以多个第二电极和与多个第二电极对应的多个驱动电极相互电连接的方式配置的多个凸块。
反射空间调制器观察装置照射

[发明专利]反射型空间光调制器、光观察装置和光照射装置-CN201780034927.9有效
发明人：泷泽国治;田中博;丰田晴义;大林宁;酒井宽人 -专利权人：浜松光子学株式会社
申请日： 2017-06-05 - 公布日： 2021-12-28 - 主分类号： G02F1/03 文献下载
摘要：反射型空间光调制器包括：具有输入输入光的输入面和与输入面相对的背面，相对介电常数为1000以上的钙钛矿型的电光晶体；光输入输出部，其具有配置于电光晶体的输入面且透过输入光的第一电极；光反射部，其包括包含多个第二电极的像素电极部和将像素电极部固定于背面的粘结层，配置于电光晶体的背面，将输入光向输入输出部反射；和向第一电极与多个第二电极之间施加电场的驱动电路，粘结层在非导电性的粘结材料的固化物中具有电介质材料。
反射空间调制器观察装置照射

[发明专利]光调制器、光观察装置以及光照射装置-CN201780035028.0有效
发明人：泷泽国治;田中博;丰田晴义;大林宁;酒井宽人 -专利权人：浜松光子学株式会社
申请日： 2017-06-05 - 公布日： 2021-12-10 - 主分类号： G02F1/03 文献下载
摘要：光调制器包括：具有输入输入光的第1面、与第1面相对的第2面，且相对介电常数为1000以上的钙钛矿型的电光晶体；具有配置于电光晶体的第1面且透过输入光的第1电极的第1光学元件；具有配置于电光晶体的第2面且透过输入光的第2电极的第2光学元件；以及向第1电极与第2电极之间施加电场的驱动电路，第1电极以单体配置于第1面，第2电极以单体配置于第2面，第1电极以及第2电极的至少一者部分地覆盖第1面或者第2面，电光晶体中的上述输入光的传播方向与上述电场的施加方向平行。
调制器观察装置以及照射

[发明专利]光学元件和光学装置-CN201780029529.8有效
发明人：泷泽国治;田中博;丰田晴义;大林宁;酒井宽人 -专利权人：浜松光子学株式会社
申请日： 2017-06-05 - 公布日： 2021-09-28 - 主分类号： G02F1/03 文献下载
摘要：本发明的光学元件包括：电光晶体，其具有输入输入光的输入面和作为输入面的相反侧的面的背面，并且是属于立方晶系的点群m3m的各向同性晶体；配置在输入面的第一电极；和在配置背面的第二电极，输入面沿着以电光晶体的三个晶轴中的一个晶轴为旋转中心而使另外两个晶轴旋转规定的角度而得到轴中的至少一个轴延伸，通过施加于第一电极与第二电极之间的电压而引起的电场的方向与输入光的传播方向一致。
光学元件装置

[发明专利]伪散斑图案生成装置、伪散斑图案生成方法、观察装置和观察方法-CN201880023619.0有效
发明人： 酒井宽人;安藤太郎;丰田晴义;大竹良幸;泷口优;兵土知子 -专利权人：浜松光子学株式会社
申请日： 2018-03-26 - 公布日： 2021-07-27 - 主分类号： G02B27/48 文献下载
摘要：伪散斑图案生成装置(1A)包括第一空间光调制器(13)、透镜(14)、第二空间光调制器(15)和透镜(16)等。第一空间光调制器(13)具有基于伪随机数图案的第一强度调制分布，对从光源(11)输出而由扩束器(12)放大了光束直径的光空间地进行强度调制。第二空间光调制器(15)具有基于滤波函数的第二强度调制分布，设置在由透镜(14)生成傅立叶变换图案的面，对经透镜(14)到达的光空间地进行强度调制。透镜(16)对从第二空间光调制器(15)输出的光的图案光学地进行傅立叶变换而生成该傅立叶变换图案作为伪散斑图案。由此，实现生成的散斑图案的空间构造或光强度统计分布的设定的自由度高的伪散斑图案生成装置等。
伪散斑图案生成装置方法观察

[发明专利]伪散斑图案生成装置、伪散斑图案生成方法、观察装置和观察方法-CN201880023641.5有效
发明人： 酒井宽人;安藤太郎;丰田晴义;大竹良幸;泷口优;兵土知子 -专利权人：浜松光子学株式会社
申请日： 2018-03-26 - 公布日： 2021-07-27 - 主分类号： G02B27/48 文献下载
摘要：伪散斑图案生成装置(1A)包括光源(11)、扩束器(12)和空间光调制器(13)。空间光调制器(13)具有基于从伪随机数图案和相关函数计算的伪散斑图案的强度的调制分布，输入从光源(11)输出而由扩束器(12)放大了光束直径的光，根据调制分布对其输入的光空间地进行调制，输出其调制后的光。由此，实现生成的散斑图案的空间构造或光强度统计分布的设定的自由度高的伪散斑图案生成装置等。
伪散斑图案生成装置方法观察

[发明专利]空间光调制器、光调制装置、以及空间光调制器的驱动方法-CN201980017917.3在审
发明人： 酒井宽人;宅见宗则;田中博 -专利权人：浜松光子学株式会社
申请日： 2019-02-07 - 公布日： 2020-10-23 - 主分类号： G02F1/061 文献下载
摘要：SLM(4A)具备调制部(40A)和驱动电路(41)。调制部(40A)具有多个像素(40a)，并且根据周期性地时间变化的驱动信号的振幅对每个像素(40a)调制入射光的相位或强度。驱动电路(41)将驱动信号提供给调制部(40A)。驱动电路(41)以使提供给多个像素(40a)中的第一像素组(401)的驱动信号(V1(t))的相位与提供给多个像素(40a)中的第二像素组(402)的驱动信号(V2(t))的相位互相反转的方式控制。由此，能够实现能够降低产生于调制后的光的波动的空间光调制器、光调制装置、以及空间光调制器的驱动方法。
空间调制器调制装置以及驱动方法

[发明专利]光调制器、光观察装置以及光照射装置-CN201780097464.0在审
发明人：泷泽国治;田中博;丰田晴义;大林宁;酒井宽人;渡边翼 -专利权人：浜松光子学株式会社
申请日： 2017-12-05 - 公布日： 2020-07-17 - 主分类号： G02F1/015 文献下载
摘要：光调制器具备：钙钛矿型的电光晶体，其具有输入输入光的输入面和与输入面相对的背面；第一光学元件，其具有配置于电光晶体的输入面，且透过输入光的第一电极；第二光学元件，其具有配置于电光晶体的背面，且透过输入光的第二电极；驱动电路，其向第一电极和第二电极之间施加电场，第一电极以单体配置于输入面，第二电极以单体配置于背面，第一电极及第二电极的至少一方部分地覆盖输入面或背面，电光晶体中的输入光的传播方向和电场的施加方向为平行，在输入面和第一电极之间及背面和第二电极之间的至少一方形成有抑制电荷注入到电光晶体内的电荷注入抑制层。
调制器观察装置以及照射

[发明专利]光照射装置-CN201680006084.7有效
发明人： 酒井宽人;泷口优 -专利权人：浜松光子学株式会社
申请日： 2016-01-12 - 公布日： 2019-09-24 - 主分类号： G03H1/22 文献下载
摘要：本发明的目的在于，提供即使在光的强度分布从高斯分布不连续地进行变形的情况下也能够使输出光的强度分布接近所希望的分布的光照射装置。本发明的光照射装置具备：高斯光束输出部(10)，输出具有服从高斯分布的光强度分布的光；空间光调制器(20)，接收所述光并呈现计算机全息图而调制所述光；光学系统(40)，对被调制的所述光进行聚光；振幅掩模(30)，被配置于所述高斯光束输出部与所述空间光调制器之间的光轴以及所述空间光调制器与所述光学系统之间的光轴中至少一方的光轴上；所述振幅掩模具有将所述光轴作为中心的圆形状的第1区域、包围所述第1区域的圆环状的第2区域，所述第2区域中的透过率随着从光轴离开而连续地降低。
照射装置

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