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[实用新型]用于金刚石表面金属化处理的工具-CN202321416024.6有效
发明人：李保龙;郭晨丽 -专利权人：长治市龙晨科技有限公司
申请日： 2023-06-06 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： B24B19/22 文献下载
摘要：本实用新型涉及金刚石处理技术领域，且公开了用于金刚石表面金属化处理的工具，包括保护箱，所述保护箱正面铰接有密封门，所述保护箱右表面开设有圆孔，所述保护箱右表面固定连接有存水箱，所述存水箱上表面开设有注水孔，所述保护箱下表面开设有深孔，所述保护箱下表面固定连接有存储箱，所述存储箱上表面开设有深孔。此装置在保护箱内壁上方设置有两个电动推杆并且在两个电动推杆下端固定连接有工作箱，并且在工作箱内壁上方设置有限位保护架，并且在限位保护架内壁中设置有电机，并且在电机输出端固定连接有转动杆，在转动杆下端螺纹连接有打磨头，在需要更换时只需转动打磨头即可从转动杆下端取下，再转动安装新的打磨头即可十分的方便。
用于金刚石表面金属化处理工具

[实用新型]一种氧化镓粉末的干燥装置-CN202321308241.3有效
发明人：李保龙;郭晨丽 -专利权人：长治市龙晨科技有限公司
申请日： 2023-05-26 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： F26B11/14 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种氧化镓粉末的干燥装置，涉及氧化镓粉末干燥技术领域。该氧化镓粉末的干燥装置，包括支撑架，所述支撑架的顶端固定连接有干燥筒，所述干燥筒的顶端设置有进料机构，所述干燥筒的底端固定连接有电机，所述电机的输出轴固定连接有转动杆，所述转动杆的外壁上固定连接有搅拌杆，所述进料机构包括进料圆盘，所述干燥筒的顶端固定连接有固定板，所述固定板的顶端固定连接有进料仓。本实用新型，通过进料圆盘的不断旋转，使得进料仓内的原料按一定规律，匀速、缓慢的进入到干燥筒内部进行干燥，使得干燥筒在干燥的同时均匀的进料，降低其待干燥的氧化镓粉末总量，有效的提高了干燥的效率及干燥效果。
一种氧化粉末干燥装置

[发明专利]一种氧化镓单晶片加工用CMP抛光液及其制备方法-CN202211132536.X有效
发明人： 郭晨丽;李保龙 -专利权人：长治市龙晨科技有限公司
申请日： 2022-09-17 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明涉及抛光液生产技术领域，具体为一种氧化镓单晶片加工用CMP抛光液及其制备方法；所述抛光液由如下重量百分比的原料制成：纳米硅溶胶45～52％、纳米二氧化锰2～4％、聚乙二醇1.8～2.5％、抛光助剂1.8～3.0％、pH值调节剂0.8～2.5％、表面活性剂2.2～2.8％、螯合剂1.2～1.8％、聚二甲基硅烷0.015～0.025％、十二烷基三甲基氯化铵0.03～0.05％、苯并三氮唑0.02～0.04％、余量为去离子水；采用本发明所制备的抛光液对氧化镓单晶片进行抛光过程中能有效地避免其表面被损伤的情况，同时也能改善其表面被抛光后的抛光划痕和表面压损等微观状况，降低粗糙度，保证了对氧化镓单晶片抛光的质量；再者，本发明制备的抛光液还具有较好的清洗性能、抗菌性能及耐磨性能，有效地提高了其品质。
一种氧化晶片工用 cmp 抛光及其制备方法

[实用新型]一种具有磨具调节机构的平面磨床-CN202321209292.0有效
发明人：李保龙;郭晨丽 -专利权人：长治市龙晨科技有限公司
申请日： 2023-05-18 - 公布日： 2023-09-15 - 主分类号： B24B7/07 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种具有磨具调节机构的平面磨床，涉及平面磨床技术领域。该具有磨具调节机构的平面磨床，包括底座，所述底座的顶端固定连接有打磨平台，所述底座的顶端固定连接有固定座，所述固定座的内部滑动连接有滑动端，所述滑动端的外端设置有调节机构，所述调节机构包括固定框，所述固定框的左侧侧壁上固定连接有电机，所述电机的输出轴上固定连接有锥齿轮一，所述锥齿轮一的外侧啮合有锥齿轮二，所述锥齿轮二的外端通过转动轴固定连接有打磨盘。本实用新型，通过设置调节机构以及装置采用两组锥齿轮的方式进行传动，能够根据工件的实际需要来对其打磨的方式进行调节，提高整个装置的适用性。
一种具有磨具调节机构平面磨床

[发明专利]一种水性金刚石切割液及其制备方法-CN202310049420.8在审
发明人： 郭晨丽;李保龙 -专利权人：长治市龙晨科技有限公司
申请日： 2023-02-01 - 公布日： 2023-06-13 - 主分类号： C10M173/02 文献下载
摘要：本发明涉及人工晶体及化合物半导体晶体切割液生产技术领域，具体为一种水性金刚石切割液及其制备方法；所述水性金刚石切割液由如下重量份的原料制成：3～10份改性纳米金刚石微粉、2～5份切割助剂、80～100份乙二醇、0.8～2.0份ε‑聚赖氨酸、6～12份有机酸盐、8～15份三乙醇胺及20～30份去离子水；本发明所制备的水性金刚石切割液不仅具有较好的抗菌性能及稳定性，而且其还具有优良的润滑性能及抗腐蚀性能，有效地保证了其品质与质量的同时也保证了切割产品的良品率。
一种水性金刚石切割及其制备方法

[发明专利]一种氧化镓单晶片化学机械抛光工艺-CN202211342190.6在审
发明人： 郭晨丽;李保龙 -专利权人：长治市龙晨科技有限公司
申请日： 2022-10-31 - 公布日： 2023-03-31 - 主分类号： B24B37/015 文献下载
摘要：本发明涉及氧化镓单晶片加工技术领域，公开了一种氧化镓单晶片化学机械抛光工艺，实现方法包括以下步骤：S1、将氧化镓单晶片粘贴在陶瓷盘上；S2、控制气缸压力，并依次进行为粗抛光、精抛光和CMP抛光；S3、对抛光垫的表面进行修整，并对温度进行监测。本发明依次采用粗抛光、精抛光和CMP抛光的抛光工序，且控制氧化镓单晶片抛光垫的材料、抛光液的黏度、抛光液的PH值、抛光盘的转速、抛光头的转速、抛光温度、抛光速率、抛光压力以及抛光量，可以有效地提高氧化镓单晶片的平整度，降低氧化镓单晶片的粗糙度，同时具有较高的去除速率，减少单晶片总厚度磨损少，对单晶片的表面层和亚表面层损伤小，实现高质量抛光。
一种氧化晶片化学机械抛光工艺

[发明专利]一种具有除尘结构的半导体加工研磨抛光机及其工作方法-CN202110811311.6在审
发明人：李保龙;耿海燕;曹玲;曹志军;郭晨丽;李伟 -专利权人：山西汇智博科科技发展有限公司
申请日： 2021-07-19 - 公布日： 2021-10-29 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：本发明公开了一种具有除尘结构的半导体加工研磨抛光机及其工作方法，涉及半导体生产技术领域。本发明包括工作台、调节架和驱动架，其中调节架与驱动架滑动配合；调节架表面安装有抛光压盘，工作台内设若干抛光轮，两者相互配合。本发明通过设置抛光压盘和抛光盘，利用两者的位置关系，将待抛光的晶圆片置于其中，进行双面研磨抛光，提高研磨效率；其中通过设置研磨皿，并填充抛光砂，能够利用抛光砂颗粒间的缝隙吸收研磨过程中产生的大量废屑；在此过程中，当出现废屑溅出时，通过设置真空泵，并依次通过气道、除尘道将废屑抽入清洁腔中，避免飞散至外部，以保护工作环境和工作人员的身体健康。
一种具有除尘结构半导体加工研磨抛光机及其工作方法

[发明专利]一种高精度半导体加工用单线切割机-CN202110795811.5在审
发明人：李保龙;曹玲;曹志军;耿海燕;郭晨丽 -专利权人：山西汇智博科科技发展有限公司
申请日： 2021-07-14 - 公布日： 2021-10-08 - 主分类号： B28D5/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种高精度半导体加工用单线切割机，涉及加工设备技术领域。本发明包括基板、竖板和收放线机构，竖板安装在基板上表面，竖板正面固定连接有组第一支座，第一支座一表面转动连接有过渡辊。本发明通过使用滑座和收放线辊，该装置在使用时可以安装若干滑座，然后每个滑座和都是一个收放线装置，其上的收放线辊可以用来收放线，因此该收放线机构可以同时切割多组零件，而且收放线辊由两个半圆辊组成，拆装方便；另外本发明通过使用连接头和连接槽，连接头与连接槽配合后，电机轴就可以带动连接轴转动，而连接轴可以带动相邻滑座的连接轴转动，从而带动收放线辊进行收放线，因此可以根据需要决定安装多少个滑座。
一种高精度半导体工用单线切割机

[发明专利]一种清洗碳化硅晶片表面污染物的方法-CN201010179864.6有效
发明人：郭钰;陈小龙;王波;张贺;王锡铭;彭同华;郭晨丽;鲍惠强;李龙远;郑红军 -专利权人：北京天科合达蓝光半导体有限公司;苏州天科合达蓝光半导体有限公司;中国科学院物理研究所
申请日： 2010-05-21 - 公布日： 2011-02-23 - 主分类号： B08B3/08 文献下载
摘要：本发明提供了一种用于碳化硅晶片表面污染物的清洗工艺，该清洗工艺包括有机清洗和无机清洗两部分内容。有机清洗包括去除表面黏着的蜡质和表面其余的部分有机污染物的步骤；无机清洗包括通过氧化-去除氧化层来去除碳化硅表面残留的有机污染物和其它强吸附性物质的步骤，还包括通过酸洗来去除表面的无机污染物的步骤。该清洗工艺能够最大限度的去除表面的污染和粒子，极大地提高了碳化硅晶片的即时使用效率。
一种清洗碳化硅晶片表面污染物方法

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