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[发明专利]直接熔炼容器及用于直接熔炼容器的冷却器-CN200780026213.X有效
发明人： 赫克托·梅迪纳 -专利权人：技术资源有限公司
申请日： 2007-05-18 - 公布日： 2009-07-22 - 主分类号： C21C5/46 文献下载
摘要：公开了一种直接熔炼容器和炉缸冷却器元件。所述容器包括有耐火衬里的炉缸。所述炉缸上部的内表面向上并向外延伸至所述容器的侧壁。所述炉缸的上部结合向外设置在所述炉缸该部分的所述耐火衬里后面并位于所述容器侧壁上的冷却板下面的炉缸冷却器。所述炉缸冷却器包括多个冷却器元件。每个冷却器元件具有中空后部开口的壳体结构，该壳体结构具有一体形成在铸造结构中的底壁、顶壁和侧壁并结合了冷却剂流道。
直接熔炼容器用于冷却器

[发明专利]在气流中引起涡旋-CN200610087697.6有效
发明人：罗德尼·詹姆士·德里;马克·普雷斯顿·戴维斯;赫克托·梅迪纳 -专利权人：技术资源有限公司
申请日： 2006-05-31 - 公布日： 2006-12-06 - 主分类号： F17C13/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于向容器内注入气体的装置。该装置可包括气流导管和位于导管前端部的中心本体。中心本体和气流导管形成环形喷嘴，用于从导管中排出气体。围绕中心本体设置多个流动引导叶片，以便使通过喷嘴的气流产生涡旋。流动引导叶片具有从中心本体向外辐射并且沿着导管延伸的基本直的前端部。流动引导叶片还具有朝向导管前端围绕中心本体螺旋延伸的基本螺旋形的后端部，以及将前端部结合到后端部并且成形为均平滑地合并到前端部和后端部并且在它们之间平滑地且连续地改变形状的过渡部。
气流引起涡旋