专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种微波介质材料HoVO4-CN202211060457.2有效
  • 李波;陈丽;谌祝廷 - 电子科技大学
  • 2022-08-31 - 2023-10-03 - C04B35/495
  • 本发明属于电子陶瓷及其制造领域,具体提供一种微波介质材料HoVO4及其制备方法。本发明提供的微波介质材料的化学式为HoVO4,由单一HoVO4晶相组成,属于四方锆石晶体结构,微观结构致密、晶粒生长均匀、原子堆积率高,从而获得了优良的微波介电性能:介电常数为11.1~11.6、Q×f值为22000~28000GHz、谐振频率温度系数为‑39~‑18ppm/℃;该微波介质材料的成本低廉、工艺简单,有利于工业化生产,可应用于介质谐振器、滤波器等微波器件的制造。
  • 一种微波介质材料hovobasesub
  • [发明专利]一种高强度高模量镁铝硅基板材料及其制备方法-CN202110333542.0有效
  • 李波;张平;谌祝廷 - 电子科技大学
  • 2021-03-29 - 2022-01-25 - C04B35/14
  • 本发明属于电子陶瓷材料领域,具体提供一种高强度高模量镁铝硅基板材料及其制备方法,适用于超大规模集成电路封装基板;该基板材料组成成分为:MgO为11~16wt%、Al2O3为18~28wt%、SiO2为47~53wt%、ZrO2为2~10wt%、B2O3为2~6wt%、BaO为1~5wt%。本发明通过BaO掺杂,有效抑制了Indialite相Mg2Al4Si5O18的形成,促进了石英固溶体相(MgAl2Si3O10)0.6的生成,最终形成了(MgAl2Si3O10)0.6和Indialite的相嵌结构,进而使得材料内应力增加,获得良好的机械性能:抗弯强度达到310MPa、杨氏模量达到110GPa,且热膨胀系数较低:4.3~4.7×10‑6/℃,能够显著提高集成电路封装的可靠性;同时,本发明提供的镁铝硅基板材料还具有介电常数低、介质损耗低、制备工艺简单、制备成本低等优点,有利于工业化生产,对于超大规模集成电路封装基板具有潜在的应用价值。
  • 一种强度高模量镁铝硅基板材料及制备方法

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