专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]平面玻璃天线及其制造方法-CN202080040767.0在审
  • 西山荣 - 株式会社NSC
  • 2020-05-19 - 2022-01-07 - H01Q1/38
  • 提供具备多个天线元件的平面玻璃天线及其制造方法。平面玻璃天线(10)使用玻璃基板(12)作为电介质基板且构成为接收电波。该平面玻璃天线(10)至少具备玻璃基板(12)、接地导电部(14)以及多个天线元件(16)。玻璃基板(12)具有配置为矩阵状的多个供电用贯通孔(20)。接地导电部(14)设置于玻璃基板(12)的第一主面。多个天线元件(16)设置于玻璃基板(12)的第二主面中的与多个供电用贯通孔(20)分别对应的位置。
  • 平面玻璃天线及其制造方法
  • [发明专利]化学研磨装置-CN201380021332.1有效
  • 西山荣 - 株式会社NSC
  • 2013-05-29 - 2016-12-28 - C03C15/00
  • 本发明提供一种不使用夹具也能够对玻璃基板实施化学研磨处理的单片式化学研磨装置。化学研磨装置(10)具备多个搬送辊(50)以及处理室(16、18、20、22),多个搬送辊(50)构成为在水平方向搬送玻璃基板,处理室(16、18、20、22)构成为对由多个搬送辊(50)搬送的玻璃基板进行化学研磨处理。处理室(16、18、20、22)至少具有处理槽(161)与回收槽(162)。处理槽(161)构成为在与由搬送辊(50)搬送的玻璃基板相比更高位置溢出化学研磨液。回收槽(162)构成为回收从处理槽(161)溢出的化学研磨液。
  • 化学研磨装置
  • [发明专利]化学研磨装置-CN201380021338.9在审
  • 西山荣 - 株式会社NSC
  • 2013-05-29 - 2015-02-25 - C03C15/00
  • 本发明提供一种不使用夹具也能够对玻璃基板实施化学研磨处理的单片式化学研磨装置。化学研磨装置(10)至少具备第1研磨处理部(4)、第2研磨处理部(2)与洗涤部(70)。第1研磨处理部(4)构成为对沿着搬送通路被搬送的玻璃基板(100)使用第1处理液进行化学研磨处理。所述第2研磨处理部(2)构成为对沿着搬送通路被搬送的玻璃基板(100)使用与所述第1处理液不同的第2处理液进行化学研磨处理。洗涤部(70)构成为配置于搬送通路的第1研磨处理部(4)的下游侧且第2研磨处理部(2)的上游侧,洗涤附着于所述玻璃基板(100)的处理液。
  • 化学研磨装置
  • [发明专利]化学研磨装置-CN201380007542.5有效
  • 西山荣 - 株式会社NSC
  • 2013-01-28 - 2014-10-22 - C03C15/00
  • 本发明提供一种不使用夹具也能够对玻璃基板实施化学研磨处理的单片式化学研磨装置。化学研磨装置(10)具备有多个搬送辊(50)以及多个喷射管(322)。多个搬送辊(50)构成为分别从下面支承玻璃基板(100)的同时向水平方向搬送玻璃基板(100)。喷射管(322)构成为对由多个搬送辊(50)搬送的玻璃基板(100)至少从下侧喷射研磨液。此外,喷射管(322)以利用研磨液至少使化学研磨处理空间内的全部的搬送辊的周面形成湿润状态的方式喷射研磨液。
  • 化学研磨装置
  • [发明专利]玻璃基板的制造方法-CN201280050824.9有效
  • 西山荣 - 株式会社NSC
  • 2012-10-09 - 2014-07-09 - C03C15/00
  • 本发明提供一种可以在单片方式的化学研磨装置中将1片薄片状的玻璃基材分割为多个玻璃基板的玻璃基板的制造方法。本发明是适用于以对连续地搬送的多个玻璃基板进行化学研磨处理的方式构成的化学研磨装置的玻璃基板的制造方法。化学研磨装置至少具备搬送部及研磨处理部。在该化学研磨装置中,通过分别调整从上侧向玻璃基材喷射的化学研磨液的量、和从下侧向玻璃基材喷射的化学研磨液的量,而使形成于第一主面的分区槽及形成于第二主面的分区槽在从玻璃基材的厚度方向的中心偏离规定量的位置贯通。
  • 玻璃制造方法
  • [发明专利]单片式化学研磨装置-CN201280050075.X有效
  • 西山荣 - 株式会社NSC
  • 2012-10-09 - 2014-06-25 - C03C15/00
  • 本发明提供一种可以不使用夹具地对玻璃基板实施化学研磨处理的单片式的化学研磨装置。化学研磨装置(10)至少具备搬送部及研磨处理部。搬送部具备以在支承玻璃基板(100)的底面的同时将其沿水平方向搬送的方式构成的多个搬送辊(50)。研磨处理部具备第一~第四处理室(16、18、20、22)、第一~第三中转部(28、30、32)。第一~第四处理室(16、18、20、22)分别以向玻璃基板喷射相同组成的化学研磨液的方式构成。第一~第三中转部(28、30、32)以将各处理室连结起来的方式构成。第一~第四处理室(16、18、20、22)分别具有可以沿与玻璃基板(100)的搬送方向正交的方向摆动的喷射喷嘴。
  • 单片化学研磨装置
  • [发明专利]玻璃基板的制造方法-CN201280029748.3有效
  • 西山荣;柏原康宏 - 株式会社NSC
  • 2012-06-29 - 2014-02-26 - C03C15/00
  • 本发明提供一种能够从实施了坚固的强化处理的大型的玻璃基材稳定地获取多片玻璃基板的玻璃基板的制造方法。玻璃基板的制造方法包括第一化学研磨步骤及第二化学研磨步骤。在第一化学研磨步骤中,以规定的单面研磨量仅对玻璃基材(10)的第一主面实施化学研磨处理。在第二化学研磨步骤中,对第一主面及第二主面的双方实施化学研磨处理。然后,在第一主面形成的第一分区槽(102)及在第二主面形成的第二分区槽(104)在从玻璃基材(10)的厚度方向的中心线(110)偏离了相当于单面研磨量的偏离量(114)的位置贯通。
  • 玻璃制造方法
  • [发明专利]玻璃基板的制造方法及其装置-CN201280017721.2有效
  • 西山荣 - 株式会社NSC
  • 2012-02-08 - 2013-12-18 - C03C15/00
  • 本发明的课题在于,提供一种能够安全地实现高品质的化学研磨处理的玻璃基板的化学研磨装置。其解决手段为,本发明的化学研磨装置具有:输送通路,其沿水平方向输送玻璃基板(GL);研磨处理部(16)、(22),其对在输送通路移动中的玻璃基板喷射化学研磨液而对玻璃基板进行薄型化;洗涤处理部(24),其对经过研磨处理部(22)而被薄型化了的玻璃基板喷射洗涤液进行洗涤,其中,在向研磨处理部(16)导入玻璃基板的导入部设置有:旋转滚轮(43),其轻轻地保持玻璃基板的表面并进行旋转;喷射部(NZ1)、(NZ2),其从研磨处理部(16)的外侧向旋转滚轮(43)喷射水。
  • 玻璃制造方法及其装置
  • [发明专利]电子装置用玻璃基板的制造方法-CN201180058971.6无效
  • 西山荣;吉田一义;作田俊秀 - 株式会社NSC;信越聚合物株式会社
  • 2011-10-13 - 2013-10-23 - C03B33/07
  • 本发明的课题在于,提供一种能够从一片玻璃母材有效地制造多个电子装置用玻璃基板的制造方法。其解决方法如下,该制造方法包括:第一工序(ST2),在玻璃基板的表面和背面中的一面或两面形成薄膜层,所述玻璃基板划分为多个使用区域;第二工序(ST4),以内部包括经过第一工序的玻璃基板的方式用保护膜覆盖玻璃基板的整体;第三工序(ST5-ST6),在被所述保护膜覆盖的状态下,将所述玻璃基板与保护膜一并按照每个使用区域机械性地切割分离成多个;第四工序(ST7),从切割分离的每个玻璃基板剥离保护膜;第五工序(ST8),在剥了保护膜的玻璃基板的表面和背面中的一面或两面粘贴板材料。
  • 电子装置玻璃制造方法
  • [发明专利]透明导电玻璃基板-CN201180051309.8有效
  • 谷口敦;吉田一义;藤木弘直;西山荣;竹内一马;羽鸟宏隆 - 信越聚合物株式会社;株式会社NSC
  • 2011-10-27 - 2013-07-03 - H01B5/14
  • 本发明提供一种柔性的透明导电玻璃基板,该透明导电玻璃基板具有与塑料基板同样的柔软性,并且能够实现对于塑料基板所不具备的硬度和透明度且具有能够承受在曲面上使用的密合性。本发明制造具有如下特征的透明导电玻璃基板:在薄玻璃基板上的至少一个面上具有导电性聚合物层,表面电阻为1.8GΩ/□以下,总光线透过率为85%以上,表面铅笔硬度H以上、在R25mm的弯曲下不破损。另外,形成导电性聚合物层的导电性聚合物涂料含有导电性聚合物以及聚阴离子,进一步含有选自含有粘合剂、固化剂、高导电化剂、界面活性剂、催化剂以及接合性提高剂的组中1种或2种以上。
  • 透明导电玻璃
  • [发明专利]电子装置用玻璃衬底以及电子装置的制造方法-CN201010154542.6无效
  • 西山荣 - 西山不锈化学股份有限公司
  • 2010-04-02 - 2010-10-13 - C03C15/00
  • 提供一种电子装置用玻璃衬底以及电子装置的制造方法。该玻璃衬底的制造方法是从一片玻璃母材制造多片电子装置用玻璃衬底的方法,具有以下工序:在玻璃母材的表背面中的表面侧设置耐氢氟酸性的抗蚀剂层的抗蚀剂工序(ST2);用激光或切割刀刃从玻璃母材的表面侧形成不贯通玻璃母材的划分线,把玻璃母材划分成多个使用区域的划分工序(ST3);以及蚀刻经过了划分工序的玻璃母材,从背面侧使玻璃母材减薄,并且使上述划分线加深的蚀刻工序(ST4)。根据本发明,可以提供有效利用玻璃的长处的电子装置用玻璃衬底。
  • 电子装置玻璃衬底以及制造方法

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