专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]光学膜和偏振片-CN201680063666.9有效
  • 藤野泰秀 - 日本瑞翁株式会社
  • 2016-11-14 - 2021-01-05 - G02B5/30
  • 本发明提供一种光学膜及具有该光学膜的偏振片,上述光学膜由包含分子量100000以上的聚合物的树脂形成,耐热性为140℃以上,铅笔硬度为F以上,水蒸气透过率为50g/m2·天以下,且面内延迟量Re和厚度方向延迟量Rth的比的绝对值|Re|和|Rth|均为3nm以下。聚合物优选包含嵌段A和共聚嵌段B,上述嵌段A具有芳香族乙烯基化合物氢化物单元(a),上述共聚嵌段B具有上述芳香族乙烯基化合物氢化物单元(a)和二烯化合物氢化物单元(b)。
  • 光学偏振
  • [发明专利]光学膜和偏振片-CN201680062733.5有效
  • 藤野泰秀 - 日本瑞翁株式会社
  • 2016-11-14 - 2020-12-25 - G02B5/30
  • 本发明提供一种光学膜及具有该光学膜的偏振片,上述光学膜的耐热性为120℃以上、撕裂强度为1.5N/mm以上、水蒸气透过率为50g/m2·天以下、且面内延迟量Re和厚度方向延迟量Rth的比的绝对值|Re|和|Rth|均为1nm以下。上述光学膜优选包含聚合物,上述聚合物包含具有芳香族乙烯基化合物氢化物单元(a)的嵌段A和具有芳香族乙烯基化合物氢化物单元(a)及二烯化合物氢化物单元(b)的共聚嵌段B。
  • 光学偏振
  • [发明专利]相位差膜的制造方法-CN201480061493.8在审
  • 波多野拓;藤野泰秀 - 日本瑞翁株式会社
  • 2014-11-12 - 2016-07-13 - G02B5/30
  • 本发明提供一种由拉伸前膜制造具有给定光学特性的相位差膜的制造方法,所述拉伸前膜具备树脂层a及树脂层b,所述树脂层a由含有聚碳酸酯的树脂A形成,所述树脂层b由特性双折射为负的树脂B形成;拉伸前膜具有根据温度产生不同相位差的性质;制造方法包括将拉伸前膜于不同温度沿不同方向进行多次单轴拉伸处理的拉伸工序;通过拉伸工序,树脂层a被拉伸,由此可得到具有给定的面取向系数的树脂层,另外,树脂层b被拉伸,由此可得到具有给定的双折射及Nz系数的树脂层;树脂A具有给定的玻璃化转变温度TgA;TgA及树脂B的玻璃化转变温度TgB满足给定的关系。
  • 相位差制造方法

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