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[发明专利]测距设备，测距方法，程序，电子装置，学习模型生成方法，制造方法和深度图生成方法-CN202080065934.7在审
发明人： 藤田敬文;小野博明;佐野弘长;武笠智治 -专利权人：索尼半导体解决方案公司
申请日： 2020-09-25 - 公布日： 2022-04-29 - 主分类号： G01C3/06 文献下载
摘要：本技术涉及一种能够更精确测距的测距设备、测距方法、程序、电子装置、学习模型生成方法、制造方法以及深度图生成方法。本发明具有：第一确定单元，确定深度图中的第一像素和与第一像素相邻的第二像素之间的深度值的差是否大于第一阈值；以及第二确定单元，当第一确定单元确定第一像素和第二像素之间的距离的差大于第一阈值时，确定第一像素和第二像素之间的可靠性差是否大于第二阈值，其中，第二确定单元确定第一像素和第二像素之间的可靠性差大于第二阈值，确认第一像素为缺陷像素。例如，本技术可以应用于测距设备。
测距设备方法程序电子装置学习模型生成制造深度

[发明专利]投光控制设备及投光控制方法-CN201980072260.0在审
发明人：小仓洋平;城坚诚;多井坚一郎;藤田敬文 -专利权人：索尼半导体解决方案公司;索尼集团公司
申请日： 2019-10-08 - 公布日： 2021-06-25 - 主分类号： G01S17/08 文献下载
摘要：本发明涉及一种光学距离测量系统，且其目的是通过提高与发光有关的功耗效率来实现功耗的降低。根据本技术的投光控制设备设置有：光接收单元，设置有多个光接收元件，多个光接收元件接收由光投射单元投射的光的反射光；对象检测单元，在距离可测量范围内执行对象检测，该范围是光接收单元能够接收反射光的范围；以及控制单元，根据对象检测单元是否检测到对象，进行控制以使从发光单元发出的光量不同，且如果对象检测单元已经检测到对象，使发光单元的发光模式在对象检测区域和非检测区域之间不同。
控制设备方法