“江思博”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果16个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]一种刻划深度调节装置、刀架系统及调节方法-CN202310712680.9有效
发明人：糜小涛;遆云赞;江思博;周敬萱;高键翔 -专利权人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
申请日： 2023-06-16 - 公布日： 2023-09-01 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本发明涉及光栅刻划领域，具体涉及一种刻划深度调节装置、刀架系统及调节方法，刻划深度调节装置包括第一安装架、微调组件、第二安装架以及调距组件，刀架系统包括刀架底座、刀架、刻划刀以及刻划深度调节装置，通过设置第一磁铁以及第二磁铁，结合微分筒的微调特性，利用第一磁铁与第二磁铁之间的磁力大小，进行刻划刀的刻划深度调节，由于微分筒的调节精度在0.01mm，因此能够实现精度更高的光栅刻划深度调节，同时，第一磁铁与第二磁铁之间的磁力分布均衡且磁力稳定，无需频繁拆卸第一磁铁进行磁力更换，调节重复性高，光栅刻划深度的调节效率高且准确性高。
一种刻划深度调节装置刀架系统方法

[发明专利]光栅刀具刀尖角测量装置及其测量方法-CN202210241246.2有效
发明人：糜小涛;江思博;周敬萱;高键翔;李晓天;吉日嘎兰图;李文昊;江锐;徐向宇;刘广义 -专利权人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所;北京科益虹源光电技术有限公司
申请日： 2022-03-11 - 公布日： 2023-03-10 - 主分类号： G01B11/26 文献下载
摘要：本发明提供一种光栅刀具刀尖角测量装置及其测量方法，其中的测量装置包括一基板；固定在基板一侧的刀架调节机构，用于调节并固定光栅刀具的位置；固定在基板上与刀架调节机构同侧的光源，用于向光栅刀具发出测量光束；与基板转动连接的光信号接收系统，用于以转动的方式接收光栅刀具的定向面和非定向面的反射光；固定在基板另一侧的圆光栅测量系统，用于测量光信号接收系统从接收定向面的反射光到接收非定向面的反射光所发生的角位移量θ，则光栅刀具的刀尖角为本发明能够直接对光栅刀具的刀尖角进行测量，提高刀尖角的测量精度，保证光栅刀具对铝膜的挤压效果，提升大尺寸中阶梯光栅的制作效率。
光栅刀具刀尖测量装置及其测量方法

[发明专利]一种中阶梯光栅拼接方法和系统-CN202110930520.2有效
发明人：糜小涛;李文昊;于宏柱;李逸凡;江思博;周敬萱;高键翔 -专利权人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
申请日： 2021-08-13 - 公布日： 2022-08-30 - 主分类号： G02B27/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种中阶梯光栅拼接方法和系统，该系统采用了剪切干涉技术，当一束光照射到剪切板上，会在其前后两个面各产生一次反射，两束反射光之间会产生一个横向剪切量，重叠部分会产生干涉条纹。如果入射光由两束相邻且近似平行的光束组成，则干涉区域会分为三个区域。两束光的相对预定方位会影响中间区域的条纹模式，因而本发明通过测量干涉条纹对应的周期和旋转判断误差种类，并定量计算误差数值后对误差进行校准，实现光栅严格拼接。
一种阶梯光栅拼接方法系统

[发明专利]中阶梯光栅复制分离装置及其使用方法-CN202210241218.0在审
发明人：糜小涛;周敬萱;江思博;高键翔;于宏柱;李文昊;巴音贺希格;江锐;徐向宇;刘广义 -专利权人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所;北京科益虹源光电技术有限公司
申请日： 2022-03-11 - 公布日： 2022-06-17 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本发明提供一种中阶梯光栅复制分离装置及其使用方法，其中的装置包括结构大致相同的上层机构和下层机构，上层机构包括上层固定座、上层固定座、上层滑座、上层双滑道和上层调节顶丝，上层双滑道的两端分别与上层固定座、上层固定座固定连接，上层滑座与上层双滑道滑动连接，上层调节顶丝穿过上层固定座与上层滑座固定连接，通过上层固定座与上层滑座的配合将复制基底夹紧，母版光栅的固定同理可知；在上层第一固定座与上层滑座上分别开设有螺纹通孔，在螺纹通孔内螺纹连接有分离顶丝，通过分离顶丝向母版光栅施力，使母版光栅与复制基底分离。本发明能够降低母版光栅被损坏的风险，不受光栅尺寸的限制，大幅度缩短中阶梯光栅的制作周期。
阶梯光栅复制分离装置及其使用方法

[发明专利]光栅基底清洗装置及其清洗方法-CN202210241225.0在审
发明人：糜小涛;周敬萱;江思博;高键翔;于宏柱;巴音贺希格;江锐;徐向宇;刘广义 -专利权人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所;北京科益虹源光电技术有限公司
申请日： 2022-03-11 - 公布日： 2022-06-07 - 主分类号： B08B3/08 文献下载
摘要：本发明提供一种光栅基底清洗装置及其清洗方法，其中的清洗装置包括：基底固定座，用于固定光栅基底；位于基底固定座下方的清洗池，在清洗池内装有用于清洗光栅基底的酸溶液；升降机构，分布于基底固定座的两侧；连接轴，连接轴的一端与基底固定座固定连接，连接轴的另一端通过球头万向节与升降机构转动连接。本发明在保证操作便捷的基础上，确保光栅基底清洗的工艺过程完整可靠，使最终制备出的大尺寸中阶梯光栅金属膜层具备良好的附着力。
光栅基底清洗装置及其方法

[发明专利]中阶梯光栅闪耀角检测装置及其检测方法-CN202210241219.5在审
发明人：糜小涛;周敬萱;江思博;高键翔;于宏柱;李文昊;巴音贺希格;江锐;徐向宇;刘广义;刘进文 -专利权人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所;北京科益虹源光电技术有限公司
申请日： 2022-03-11 - 公布日： 2022-06-03 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本发明提供一种中阶梯光栅闪耀角检测装置及其检测方法，方法包括：S1、确定中阶梯光栅的闪耀角，根据闪耀角对刻刀的安装角度进行粗调，以对基底刻划形成光栅试段，在基底未刻划的部分镀制金属膜；S2、将基底放置在转台上进行调整，使光垂直入射到金属膜，通过功率计测量各单色光的能量I0(x)；S3、平移基底使光入射到光栅试段，当基底的转动角度为闪耀角时，利用功率计测量各衍射光的能量I(x)；S6、根据I0(x)与I(x)计算光栅试段的各波长的衍射效率，通过调整刻刀的安装角度，直到中阶梯光栅的中心波长的衍射效率处于衍射效率峰值为止；S7、刻刀根据调整好的安装角度对中阶梯光栅进行刻划。本发明能够保证刻刀安装角的调整量准确无误，提升光栅的刻划效率。
阶梯光栅闪耀检测装置及其方法

[发明专利]中阶梯光栅金属膜层制备工装及其使用方法-CN202210241220.8在审
发明人：糜小涛;江思博;周敬萱;高键翔;于宏柱;李文昊;巴音贺希格;江锐;徐向宇;刘广义;刘进文 -专利权人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所;北京科益虹源光电技术有限公司
申请日： 2022-03-11 - 公布日： 2022-05-13 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本发明提供一种中阶梯光栅金属膜层制备工装及其使用方法，其中的制备工装包括：连接板，在连接板上开设有安装孔；基底固定架，基底固定架通过连接件固定在安装孔内，光栅基底固定在基底固定架内；水平仪，水平仪置于光栅基底的背面，用于测量光栅基底的镀膜面相对于水平面的倾斜角度；工件盘，工件盘为环形结构，连接板的两端与工件盘之间分别连接有调节螺钉和紧固螺栓，调节螺钉用于将光栅基底的镀膜面调至水平，紧固螺栓用于将连接板的两端与工件盘锁紧。本发明能够在保证中阶梯光栅全口径镀膜的基础上，实现对光栅基底的镀膜面的水平调节，确保金属膜层在镀膜面各区域质量的一致性，从而大幅度缩短中阶梯光栅和复制光栅的制作周期。
阶梯光栅金属膜制备工装及其使用方法

[发明专利]一种高精度的光栅拼接误差校正装置和方法-CN202110346767.X有效
发明人：糜小涛;杨国军;齐向东;张善文;李逸凡;江思博;周敬萱 -专利权人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
申请日： 2021-03-31 - 公布日： 2022-02-22 - 主分类号： G02B7/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种高精度的光栅拼接误差校正装置和方法，所述高精度的光栅拼接误差校正装置的二维校正单元结合采用线性促动器和柔性铰接的结构对第一光栅进行位置姿态调整，实现了高精度和高稳定性的二维拼接误差的校正；所述高精度的光栅拼接误差校正装置的的三维校正单元结合采用线性促动器和弹性柱的结构对第二光栅进行位置姿态调整，实现了高精度和高稳定性的三维拼接误差的校正，如此经由所述二维校正单元和所述三维校正单元的误差校正效果的耦合，综合实现了对所述拼接光栅的五维光栅拼接误差的高精度校正，使得所述高精度的光栅拼接误差校正装置具有拼接误差校正精度高，工作稳定性高的优点。
一种高精度光栅拼接误差校正装置方法

[发明专利]一种光栅毛坯的面型误差引起的刻线误差的校正方法-CN202011137813.7有效
发明人：糜小涛;张善文;齐向东;江思博;林雨;周敬萱 -专利权人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
申请日： 2020-10-22 - 公布日： 2022-01-28 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本发明提供了一种光栅毛坯的面型误差引起的刻线误差的校正方法，属于衍射光栅的制备技术领域，本发明的校正方法首先测量出待刻光栅毛坯的面型误差，然后求得光栅毛坯面型所引起的刻线误差矩阵，并将之写入光栅刻划程序中，最后在光栅刻划时通过微定位控制来校正光栅毛坯的面型误差引起的刻线误差。本发明的光栅毛坯的面型误差引起的刻线误差的校正方法，对光栅基底的加工质量和镀膜机的尺寸、镀膜机自身均匀性的要求不高，大大降低了光栅刻划毛坯的制作难度和对镀膜机的要求，不受光栅基底的加工水平和镀膜工艺水平的限制，尤其是对于大尺寸光栅而言，更容易获得较高的波前质量。
一种光栅毛坯误差引起校正方法

[发明专利]一种光栅拼接装置-CN202010857948.4有效
发明人：糜小涛;张善文;齐向东;林雨;江思博;周敬萱;杨国军 -专利权人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
申请日： 2020-08-24 - 公布日： 2021-12-31 - 主分类号： G02B7/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种光栅拼接装置，包括基体和待拼接的至少两个光栅，所述基体和所述光栅之间设有用以将所述光栅固定于所述基体的若干第一固紧机构，所述基体和所述光栅之间还设有可研磨的调整机构。上述光栅拼接装置通过研磨来减小拼接误差以实现光栅高精度的拼接，满足拼接质量的同时，结构简单，制作方便，利于光栅拼接质量的长期稳定性，同时具有光栅拼接的高精度和高稳定性的特点。
一种光栅拼接装置

[发明专利]光栅拼接校正方法、装置以及光栅拼接校正系统-CN201911354299.X有效
发明人：糜小涛;杨国军;齐向东;张善文;于海利;于宏柱;丛敏;江思博;周敬萱 -专利权人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
申请日： 2019-12-25 - 公布日： 2021-08-20 - 主分类号： G01J3/45 文献下载
摘要：本发明公开了一种光栅拼接校正方法、装置以及光栅拼接校正系统。所述光栅拼接校正装置，应用于光栅拼接校正系统。所述校正方法包括：调节第一反射部和第二反射部中的一者或两者，使得干涉仪检测到具有相同的非零衍射级次并且具有不同入射角度的第一干涉场和第二干涉场；调节所述第二光栅，使得所述第一干涉场和所述第二干涉场的干涉条纹一致。本发明实施例能够通过反射部控制机构，调节反射部，使得干涉仪检测到具有相同的非零衍射级次并且具有不同入射角度的两个干涉场，然后光栅控制机构调节光栅，使得两个干涉场的干涉条纹一致，从而精确地校正了光栅拼接的误差。
光栅拼接校正方法装置以及系统

[发明专利]一种适用于衍射光栅的切割方法-CN201910679691.5有效
发明人：于宏柱;唐玉国;赵络欣;孙也尧;常雯娟;王耕;江思博;李文昊;糜小涛;齐向东;张善文;马振予 -专利权人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
申请日： 2019-07-26 - 公布日： 2021-02-12 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本发明提供了一种适用于衍射光栅的切割方法，包括以下步骤：S1：将待切割的衍射光栅的表面进行保护，制备成衍射光栅保护结构；S2：将所述衍射光栅保护结构固定于切割机上，切割成所需尺寸；S3：对切割后的小尺寸衍射光栅保护结构进行去表面保护处理。本发明的适用于衍射光栅的切割方法，在衍射光栅的表面进行了有效保护，避免了衍射光栅的表面直接暴露在空气中，避免在切割加工中，切割产生的粉尘和切削液对衍射光栅造成不可挽回的损坏，使切割加工应用于衍射光栅的加工处理成为可能，实现衍射光栅的无损切割，实现了先制备大尺寸的衍射光栅，再切割成所需的小尺寸衍射光栅的制备方式，提高了制备效率。
一种适用于衍射光栅切割方法

[发明专利]一种光栅膜层的制备方法-CN201910887816.3有效
发明人：糜小涛;张善文;齐向东;周敬萱;江思博;于宏柱;于海利 -专利权人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
申请日： 2019-09-19 - 公布日： 2021-01-05 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本申请公开了一种光栅膜层的制备方法，包括：预先获取镀膜机的镀膜均匀性轮廓图，镀膜均匀性轮廓图为在理论镀膜厚度下，镀膜机镀膜区域内各位置与各位置对应的实际镀膜厚度之间的关系图；根据镀膜均匀性轮廓图对光栅基底的第一表面进行加工，以使第一表面的轮廓形状与镀膜均匀性轮廓图的轮廓形状相反；将光栅基底放置在镀膜机的镀膜区域中，利用镀膜机在光栅基底的第一表面镀制膜层。本申请公开的上述技术方案，让光栅基底第一表面的轮廓形状与镀膜机镀膜均匀性轮廓图的轮廓形状相反，通过光栅基底对镀膜机的镀膜均匀性进行校正，以降低对镀膜机镀膜均匀性的要求，从而降低镀膜的成本。
一种光栅制备方法

[发明专利]一种光栅刻刀方位角的调整方法-CN201910887122.X有效
发明人：糜小涛;张善文;齐向东;林雨;周敬萱;江思博;于海利;于宏柱 -专利权人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
申请日： 2019-09-19 - 公布日： 2020-12-08 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本申请公开了一种光栅刻刀方位角的调整方法，包括：利用预先根据光栅刻刀方位角要求调整过方位角的光栅刻刀在基底上刻划第一刻线，并利用光栅刻刀进行压刃，得到光栅刻刀刃型；获取光栅刻刀刃型的刃尖与第一刻线之间的第一距离、光栅刻刀刃型的刃尾与第一刻线之间的第二距离及光栅刻刀刃型的长度，并得到光栅刻刀的方位角的第一偏转角度；判断第一偏转角度是否满足光栅刻刀方位角要求，若否，则根据第一偏转角度对光栅刻刀的方位角进行调整。本申请公开的上述技术方案，通过对光栅刻刀方位角偏转情况的定量计算实现对其的准确判断，并便于根据所得到的第一偏转角度实现对光栅刻刀的方位角的准确调整，以提高光栅刻刀方位角调整的准确性和效率。
一种光栅刻刀方位角调整方法

[发明专利]一种调整光栅刻刀方位角的方法-CN201910887109.4有效
发明人：糜小涛;张善文;齐向东;林雨;江思博;周敬萱;于宏柱;于海利 -专利权人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
申请日： 2019-09-19 - 公布日： 2020-12-08 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本申请公开了一种调整光栅刻刀方位角的方法，包括：利用光栅刻刀在基底上划刻刻线；利用形貌扫描仪对刻线进行扫描，得到刻线的截面图；根据截面图计算与刻线的凹陷处相邻的第一隆起处的第一隆起面积、第二隆起处的第二隆起面积；根据第一隆起面积、第二隆起面积、隆起面积和光栅刻刀方位角之间的关系表得到光栅刻刀的当前方位角；判断当前方位角是否满足光栅刻刀方位角要求，若否，对光栅刻刀的方位角进行调整。本申请公开的上述技术方案，通过第一隆起面积、第二隆起面积及关系表实现定量化地获取到光栅刻刀的当前方位角，并根据当前方位角对光栅刻刀的方位角进行调整，以提高光栅刻刀方位角判断和调整的准确性，提高光栅刻刀方位角调整的效率。
一种调整光栅刻刀方位角方法

1
2
下一页»
尾页
共 16 条