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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]图像拾取装置、光学测量装置及测量系统-CN201810595166.0有效
发明人：加藤隆介;森内荣介 -专利权人：株式会社三丰
申请日： 2018-06-11 - 公布日： 2022-01-04 - 主分类号： G01B11/24 文献下载
摘要：本发明公开了图像拾取装置、光学测量装置及测量系统。能够提高光学测量装置的测量精度和测量可作业性的图像拾取装置、包括该图像拾取装置的光学测量装置以及测量系统。根据本发明一方面的图像拾取装置包括基部、分束器和图像拾取部。所述基部配置成可拆卸地附接到光学测量装置，所述光学测量装置包括配置成将对象的图像投影在屏幕上的投影光学系统。所述分束器在所述基部附接到所述光学测量装置时设置在所述投影光学系统的光轴上。所述图像拾取部包括配置为接收通过在所述分束器处分裂而产生的光的图像拾取设备，并且配置为在附接所述基部时拍摄对象的图像。
图像拾取装置光学测量系统

[发明专利]图像测量设备和测量设备-CN201510845594.0有效
发明人：西尾幸真;岩田俊一;森内荣介 -专利权人：株式会社三丰
申请日： 2015-11-26 - 公布日： 2020-04-24 - 主分类号： G01B11/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种图像测量设备和测量设备。该图像测量设备包括：样品台，其具有放置要测量的对象的放置面；摄像设备，该摄像设备与样品台的放置面相对，并且用于拍摄要测量的对象的图像；以及图案投影设备，用于将预定图案投影在样品台上，其中该预定图案针对放置面上的要测量的对象的放置位置和方向中的至少之一提供基准。
图像测量设备

[发明专利]焦点检测单元及光学设备-CN201510282946.6有效
发明人： 森内荣介;长滨龙也;宍户裕子 -专利权人：株式会社三丰
申请日： 2015-05-28 - 公布日： 2019-05-17 - 主分类号： G02B21/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种焦点检测单元及光学设备。其中，焦点检测单元用于调整由光学系统形成的物体的图像的焦点，所述焦点检测单元包括：第一出射部、第二出射部以及投射光学系统。所述第一出射部包括配置为基于入射光生成第一图案图像的第一光调制元件，并且配置为射出所生成的第一图案图像。所述第二出射部包括配置为基于入射光生成第二图案图像的第二光调制元件，并且配置为射出所生成的第二图案图像。所述投射光学系统配置为投射所射出的第一图案图像和所射出的第二图案图像，使得所射出的第一图案图像和所射出的第二图案图像在所述光学系统的聚焦位置处具有预定位置关系。
焦点检测单元光学设备

[发明专利]形状测量设备-CN201410084250.8有效
发明人：山县正意;根本贤太郎;森内荣介;岩本正 -专利权人：株式会社三丰
申请日： 2014-03-07 - 公布日： 2018-08-28 - 主分类号： G01B11/24 文献下载
摘要：一种形状测量设备，包括：照射部，用于利用线状的线激光来照射工件，所述照射部包括：光源，用于生成激光；第一光学构件，用于使来自所述光源的激光线状地散开，并且生成所述线激光；以及第二光学构件，其设置在所述光源和所述第一光学构件之间，用于调整所述工件上的线激光的照射面积；第一传感器，用于接收所述工件所反射的线激光，并且拍摄所述工件的图像；透镜，用于在所述第一传感器的摄像面上形成所述工件所反射的线激光的图像；以及控制部，用于通过所述第二光学构件来对所述工件上的线激光的照射面积的调整进行控制。
形状测量设备

[发明专利]光学探测器、可装配盖和形状测量设备-CN201510065230.0在审
发明人：根本贤太郎;山县正意;森内荣介;岩本正 -专利权人：株式会社三丰
申请日： 2015-02-06 - 公布日： 2015-08-12 - 主分类号： G01B11/24 文献下载
摘要：本发明涉及一种光学探测器、可装配盖和形状测量设备。该光学探测器包括探测器盖，其中在该探测器盖内，安装了具有照射光学系统和接收光学系统的光学系统。向探测器盖的形成与工件相对的相对区域的底面设置用于使光穿过的出射区域和入射区域。该底面形成了从工件所反射的光中沿着镜面反射方向的光从来自出射区域的出射光照射在工件上的位置起、在远离入射区域的方向上反射的面。因此，可以抑制入射到入射区域的二次反射光的量，因此可以抑制接收光分布中的错误值的发生。
光学探测器装配形状测量设备

[发明专利]光学探测器、可装配盖和形状测量设备-CN201510065073.3在审
发明人：根本贤太郎;山县正意;森内荣介;岩本正 -专利权人：株式会社三丰
申请日： 2015-02-06 - 公布日： 2015-08-12 - 主分类号： G01B11/25 文献下载
摘要：本发明涉及一种光学探测器、可装配盖和形状测量设备。光学探测器包括探测器盖，其中在该探测器盖内，安装了具有照射光学系统和接收光学系统的光学系统。在探测器盖的形成与工件相对的相对区域的底面设置用于使光穿过的出射区域和入射区域。另外，在探测器盖的底面设置光反射防止结构或漫反射结构。利用反射防止结构来防止从工件反射的光反射离开底面，或者利用漫反射结构使反射光发生漫反射。因此，可以抑制由于二次反射光而导致的在接收光分布中发生错误值。
光学探测器装配形状测量设备

[发明专利]光学组件及测量装置-CN200910118477.9无效
发明人：下川清治;长滨龙也;森内荣介 -专利权人：株式会社三丰
申请日： 2009-03-13 - 公布日： 2009-09-23 - 主分类号： G02B7/16 文献下载
摘要：本发明涉及光学组件及测量装置，该光学组件具有：物镜(1)、配置在该物镜(1)的光轴上且将从物镜(1)射出的光束成像的成像透镜(2)、配置在物镜(1)和成像透镜(2)之间且远焦倍率(α1、α2)不同的多个远焦光学系统(11、12)以及将该多个远焦光学系统(11、12)中的任一个转换到物镜(1)的光轴上的转换机构(21)。
光学组件测量装置

[发明专利]图像测量仪、其照明装置及照明装置控制方法和程序-CN03119577.6有效
发明人： 森内荣介;下川清治;赤木敬治;吉田博行 -专利权人：株式会社三丰
申请日： 2003-03-10 - 公布日： 2003-10-15 - 主分类号： G01B21/00 文献下载
摘要：本发明涉及对与每个发光光源的附加电流值对应的照度及色度进行测定，利用对应于发光光源照度变化产生的色度变化和色合成理论公式，计算出用指示值指示的照度对具有规定色度的合成照明进行合成时所需的各发光光源的发光强度的混合比(ST33)，用混合比计算出产生指示值指示的照度时各发光光源的照度(ST34)，用这种照度使各发光光源发光，从发光光源的特性中读取所需的附加电流值(ST35)。
图像测量仪照明装置控制方法程序

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